[发明专利]一种非球面微透镜阵列的电场诱导压印方法

权利要求书

1.一种非球面微透镜阵列的电场诱导压印方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）压印模具的制备及处理：在晶圆表面利用光刻和刻蚀工艺加工出所需的圆孔阵列图形结构，并对其进行表面处理，使其利于压印后的脱模；

2）基材、电极和聚合物的选择：基材和电极都采用表面蒸镀了一层厚度为50nm-300nm的导电纳米铟锡金属化合物的ITO导电玻璃，聚合物采用具有热塑性的材料，或同时具有热塑性和紫外可固化的材料；

3）压印及脱模：利用匀胶机在基材上旋涂一层聚合物，聚合物厚度为10um-50um，以10Mpa的压力P将处理后的压印模具压在基材上，与基材紧密结合，并保证环境温度在聚合物的玻璃态转换温度以上，1-20分钟后，冷却至室温，脱模，在基材上留下聚合物柱状阵列；

4）施加外电场：利用另一块ITO导电玻璃作为上电极，与基材组合形成一对平板电极，两平板电极之间有一层空气间隙，空气间隙是柱状阵列高度的2-4倍，采用直流电源，电压调节范围在300-500V，正极连上电极，负极连基材，对形成的聚合物微柱阵列施加外电场；

5）电场诱导再成型：再将环境温度升至玻璃态转化温度以上，调节电压大小，使电场力大于聚合物表面张力，持续1-20分钟，直至成型过程结束；

6）聚合物的固化：在保持施加电压不变的情况下，根据聚合物材料性质，选择相应的固化方式，最终得到非球面微透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的一种非球面微透镜阵列的电场诱导压印方法，其特征在于，所述的聚合物为PMMA、PS或SU-8胶。