[发明专利]一种聚合物漫反射材料的配方及制备方法无效
| 申请号： | 201310006490.1 | 申请日： | 2013-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN103102668A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 吴大鸣;刘颖;郑秀婷;计红艳;许红;赵中里;陈加山;何慧华;王伟 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学;济源市蓝曼节能科技有限公司 |
| 主分类号： | C08L69/00 | 分类号： | C08L69/00;C08L23/12;C08L67/02;C08L55/02;C08L51/00;C08L33/12;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/353;B29C47/92 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 漫反射 材料 配方 制备 方法 | ||
1.一种聚合物漫反射材料，其特征在于，所述漫反射材料的组分及重量配比为：
聚合物PC 85-97份
钛白粉3-15份 ,
抗氧剂0.1-0.5份、
光稳定剂0.5-2份，
荧光增白剂0.01-0.05份，
分散剂0.5-5份；
所述的钛白粉为微米级或纳米级,所述的抗氧剂为受阻酚类抗氧剂和辅助抗氧剂；所述的荧光增白剂为噁唑类荧光增白剂，所述分散剂为石蜡、高分子蜡或硬脂酸皂；所述的聚合物为聚丙烯PP、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、耐冲击聚苯乙烯HIPS、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚碳酸酯PC。
2.根据权利要求1所述的一种聚合物漫反射材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）制备漫反射板专用料或者预混料
将聚合物 85-97份、钛白粉3-15份 , 抗氧剂0.1-0.5份、光稳定剂0.5-2份，荧光增白剂0.01-0.05份，分散剂0.5-5份，在搅拌机中混合均匀后，加入双螺杆挤出机中，熔融混合制得专用料，或者先将钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂、分散剂与部分聚合物加入双螺杆挤出机中先制备预混料，双螺杆挤出机的温度为：一区温度：165-230℃、二区温度：170-240℃、三区温度：175-250℃、四区温度：180-250℃、五区温度：180-250℃，六区温度：180-260℃，七区温度：185-270℃，八区温度：185-270℃，九区温度：185-285℃，十区温度：185-285℃；双螺杆转速为100-400r/min；
2）制备漫反射板
将所制备的专用料或剩余聚合物与上述预混料的混合物加入单螺杆挤出机的料斗，挤出温度为一区温度：165-265℃，二区温度：180-280℃，三区温度：190-290℃，机头温度为185-295℃；螺杆转速为10-70r/min；压印滚的温度设定为30-150℃，牵引速度为2-10m/min；利用单螺杆挤出成型制造聚合物片材，让其直接进入滚轮微压印设备，把滚轮上的微结构转印至聚合物片材表面上。
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