[其他]用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环

权利要求书

1.一种用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环，包含：

环形主体，该环形主体具有外缘、内缘、顶表面及底部，其中该外缘具有约12.473英寸至约12.479英寸的直径，且该内缘具有约11.726英寸至约11.728英寸的直径，而且其中该环形主体具有约0.116英寸至约0.118英寸的厚度；以及

多个凸部，该多个凸部位于该环形主体的该顶表面上，该多个凸部中的每一者对称地位于该环形主体周围。

2.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该多个凸部包含仅三个凸部，以及其中该仅三个凸部位于该环形主体周围相互间隔约120度。

3.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该多个凸部中的每一者具有约0.049英寸至约0.059英寸的高度。

4.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该多个凸部中的每一者包含倾斜面，其中该倾斜面与垂直于该环形主体的表面的轴线成约9度至约11度的角度。

5.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该处理套组环由碳化硅(SiC)所制造。

6.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该内缘包含平坦部，该平坦部位于该多个凸部中的一者附近，该平坦部具有约1.310英寸至约1.320英寸的长度。

7.如权利要求1所述的处理套组环，其特征在于，该环形主体的中心与该多个凸部中的每一者的外缘之间的一距离为约6.995英寸至约6.105英寸，以及其中该环形主体的该中心与该多个凸部中的每一者的内缘之间的距离为约5.937英寸至约5.947英寸。

8.一种用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环，包含：

环形主体，该环形主体具有外缘、内缘、顶表面及底部，其中该外缘具有约15.115英寸至约15.125英寸的直径，且其中该内缘具有约11.752英寸至约11.757英寸的直径，而且其中该环形主体具有约0.510英寸至约0.520英寸的厚度；

第一步阶及第二步阶，该第一步阶及该第二步阶形成于该环形主体中且介于该外缘与该内缘之间，其中该第一步阶具有约12.077英寸至约12.087英寸的外径，及其中该第二步阶具有约11.884英寸至约11.889英寸的外径；以及

从该环形主体的该底部在该环形主体的该外缘附近向下延伸的环，该环具有约14.905英寸至约14.915英寸的内径。

9.如权利要求8所述的处理套组环，其特征在于，从该第二步阶的顶表面到该环形主体的该顶表面的过渡具有相对于该环形主体的该顶表面约99度至约101度的角度。

10.如权利要求8所述的处理套组环，其特征在于，该内缘包含平坦部，该平坦部设以接合该基板支撑件的一部分。

11.如权利要求8所述的处理套组环，其特征在于，该处理套组环由石英(SiO2)所制造。

12.一种用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环，包含：

环形主体，该环形主体具有外缘、内缘、顶表面及底部，其中该外缘具有约15.115英寸至约15.125英寸的直径，且其中该内缘具有约12.245英寸至约12.250英寸的直径，而且其中该环形主体具有约0.520英寸至约0.530英寸的厚度；以及

多个凸部，该多个凸部对称地位于该环形主体之该内缘周围，该多个凸部从该内缘往该环形主体的中心向内延伸。

13.如权利要求12所述的处理套组环，其特征在于，该处理套组环由石英(SiO2)所制造。

14.如权利要求12所述的处理套组环，其特征在于，该多个凸部包含以下至少一者：

仅三个凸部，其中该仅三个凸部位于该环形主体的该内缘周围相互间隔约120度；

从该多个凸部中的每一者的终端到该环形主体的中心的距离，该距离为约5.937英寸至约5.947英寸；

弯曲过渡，该弯曲过渡介于该多个凸部中的每一者的基板支撑表面与该环形主体的该顶表面之间；或者

该多个凸部中的每一者的一基板支撑表面，该基板支撑表面位于该环形主体的该顶表面下方。

15.如权利要求12所述的处理套组环，其特征在于，该处理套组环进一步包含以下至少一者：

凹槽，该凹槽位于该环形主体中且在该环形主体的该内缘下方，该凹槽具有约12.405英寸至约12.505英寸的外径；

锥形部，该锥形部从该环形主体的该内缘延伸到该环形主体的该顶表面，其中该锥形部与该环形主体的该顶表面之间的角度为约99度至约101度；或者

从该环形主体的该底部在该环形主体的外缘附近向下延伸的环，该环具有约14.905英寸至约14.915英寸的内径。