[发明专利]ALD反应器中的衬底装载在审
申请号: | 201280077254.2 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN104812938A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | V·基尔皮;J·科斯塔莫;W-M·李 | 申请(专利权)人: | 皮考逊公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平;侯宝光 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ald 反应器 中的 衬底 装载 | ||
1.一种方法,其包括:
将多个衬底装载到沉积反应器的装载室中的衬底支架内,以在所述衬底支架内形成水平定向的衬底的垂直堆叠;和
转动所述衬底支架以形成垂直定向的衬底的水平堆叠,并且将所述衬底支架下降至所述沉积反应器的反应室内用于沉积。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述装载包括通过装载器将衬底一次一个地移动通过装载口进入所述装载室。
3.根据权利要求1或2的方法,其包括:
在所述装载室和所述反应室之间提供闸门,所述装载室位于所述反应室的顶部。
4.根据前述权利要求任一项的方法,其包括:
通过装置前端模块将所述衬底从衬底存储载体装载至装载设备拾取和返回站内;和
从所述装载设备拾取和返回站将所述衬底一次一个地经过传送室装载到所述装载室内。
5.根据前述权利要求任一项的方法,其包括通过旋转移动来转动所述衬底支架。
6.根据前述权利要求任一项的方法,其包括通过致动器从侧面接入所述衬底支架,并且通过所述致动器转动所述衬底支架。
7.根据前述权利要求任一项的方法,其包括:
将所述多个衬底在所述反应室内暴露于时间上隔开的前体脉冲,以通过依次的自饱和表面反应将材料沉积在衬底表面上。
8.一种仪器,其中
装载器构造为将多个衬底装载到沉积反应器的装载室中的衬底支架内以在所述衬底支架内形成水平定向的衬底的垂直堆叠,所述仪器包括:
转动机构和升降机,所述转动机构构造为转动所述衬底支架以形成垂直定向的衬底的水平堆叠,所述升降机构造为将所述衬底支架下降至所述沉积反应器的反应室内用于沉积。
9.根据权利要求8所述的仪器,其中所述装载器构造为将衬底一次一个地移动通过装载口进入所述装载室。
10.根据权利要求8或9所述的仪器,其包括:
所述装载室和所述反应室之间的闸门,所述装载室位于所述反应室的顶部。
11.根据前述权利要求8-10任一项所述的仪器,其包括:
装置前端模块和装载设备,所述装置前端模块构造为将所述衬底从衬底存储载体装载至装载设备拾取和返回站内;并且所述装载设备构造为将所述衬底从所述装载设备拾取和返回站一次一个地经过传送室装载至所述装载室内。
12.根据前述权利要求8-11任一项所述的仪器,其中所述转动机构构造为通过旋转移动来转动所述衬底支架。
13.根据前述权利要求8-12任一项所述的仪器,其中所述转动机构构造为从侧面接入所述衬底支架,并且转动所述衬底支架。
14.根据前述权利要求8-13任一项所述的仪器,其中所述仪器包括多个相互之间按预定方式放置的沉积反应器,并且所述装载设备构造为装载所述沉积反应器中的每一个。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的