[发明专利]液晶显示装置及其制造方法在审
| 申请号: | 201280076568.0 | 申请日: | 2012-10-22 |
| 公开(公告)号: | CN104756000A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
| 发明(设计)人: | 杉本光弘; 住吉研; 西田真一; 池野英德; 伊藤英毅 | 申请(专利权)人: | NLT科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337; G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示装置,包括设置成矩阵的像素,其中,一个像素区域的电极图案和液晶配向区域分别被分割配置,其中:
所述一个像素区域具有相互对应地组合的分割成多个分割电极Pn(由P1,P2,…,Pm构成,其中m是2或更大的整数)的电极图案和分割成多个分割配向On(由O1,O2,…,Om构成,其中m是2或更大的整数)的液晶配向;
所述一个像素区域的所述分割电极Pn(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个像素区域相邻的像素区域的分割电极P’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)为相同结构;
所述一个像素区域的所述分割配向On(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个像素区域相邻的至少一个像素的分割配向O’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)由相同的配向区域形成。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,
由所述一个像素区域的所述分割配向On和与所述一个像素区域相邻的像素区域的所述分割配向O’n形成的分割配向区域On+O’n分别由相同形状且相同面积的重复图案形成。
3.一种液晶显示装置,包括设置成矩阵的像素,其中,一个像素区域的电极图案和和液晶配向区域分别被分割配置,其中:
所述像素由多个子像素构成;
将至少一个或多个所述子像素组合为一个单元子像素区域;
所述一个单元子像素区域具有相互对应地组合的分割成多个分割电极Pn(由P1,P2,…,Pm构成,其中m是2或更大的整数)的电极图案和分割成多个分割配向On(由O1,O2,…,Om构成,其中m是2或更大的整数)的液晶配向;
所述一个单元子像素区域的所述分割电极Pn(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个单元子像素区域相邻的至少一个子像素区域的分割电极P’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)为相同结构;
所述一个单元子像素区域的所述分割配向On(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个单元子像素区域相邻的至少一个子像素区域的分割配向O’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)由相同的配向区域形成。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其中,
由所述一个单元子像素区域的所述分割配向On和与所述一个单元子像素区域相邻的子像素区域的所述分割配向O’n形成的分割配向区域On+O’n分别由相同形状且相同面积的重复图案形成。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示装置,其中,所述液晶配向是横向电场模式。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的液晶显示装置,其中,所述m是4。
7.一种用于制造液晶显示装置的方法,所述液晶显示装置包括设置成矩阵的像素,其中,一个像素区域的电极图案和和液晶配向区域分别被分割配置,其中:
所述一个像素区域具有相互对应地组合的分割成多个分割电极Pn(由P1,P2,…,Pm构成,其中m是2或更大的整数)的电极图案和分割成多个分割配向On(由O1,O2,…,Om构成,其中m是2或更大的整数)的液晶配向;
所述一个像素区域的所述分割电极Pn(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个像素区域相邻的像素区域的分割电极P’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)为相同结构;
所述一个像素区域的所述分割配向On(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)和与所述一个像素区域相邻的至少一个像素的分割配向O’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)由相同的配向区域形成;
由所述一个像素区域的所述分割配向On和与所述一个像素区域相邻的像素区域的所述分割配向O’n形成的分割配向区域On+O’n分别由相同形状且相同面积的重复图案形成;以及
所述分割配向区域On+O’n(n是1至m的任意整数,m是2或更大的整数)通过光配向处理形成,在所述光配向处理中,将任意的掩膜尺寸视作曝光区域,并在与配向分割的各区域的配向方向相对应的方向上进行分级进给。
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