[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统在审

专利信息
申请号: 201280076413.7 申请日: 2012-10-27
公开(公告)号: CN104718499A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: M.帕特拉 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/09
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈金林
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 微光 投射 曝光 设备 照明 系统
【权利要求书】:

1.一种微光刻投射曝光设备的照明系统,包含光学积分器(70),其中,所述光学积分器包含:

a)第一光栅板(74),其包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列;

b)第二光栅板(76),其包含沿着所述参考方向(X)具有第二焦距f2的第二透镜(84)的阵列;

其中,所述第一透镜的顶点及所述第二透镜的顶点隔开大于所述第二焦距f2的距离d,其中,d>1.01·f2

2.如权利要求1所述的照明系统,其中,d>1.02·f2

3.如权利要求2所述的照明系统,其中,d>1.05·f2

4.如前述权利要求任一项所述的照明系统,包含光源(30),其构造为产生具有波长λ的投射光。

5.如权利要求4所述的照明系统,其中,所述第二透镜(84)沿着所述参考方向(X)具有节距p,以及其中,

p2/(λ·f2)<k,其中,k=40。

6.如权利要求5所述的照明系统,其中,k=20。

7.如权利要求6所述的照明系统,其中,k=10。

8.如权利要求4至7中任一项所述的照明系统,其中,所述光学积分器(70)布置在所述光源(30)和空间光调制器(38)之间,所述空间光调制器(38)构造为改变所述照明系统(12)的光瞳面(56)中的空间辐照分布。

9.如权利要求8所述的照明系统,其中,所述空间光调制器包含反射或透明光束偏转元件(42)的光束偏转阵列(40),其中,各光束偏转元件(42)构造为按偏转角来偏转光束,所述偏转角能够响应施加于所述光束偏转元件(42)的控制信号而改变。

10.如权利要求9所述的照明系统,其中,所述光束偏转元件(42)是可倾斜反射镜。

11.如前述权利要求任一项所述的照明系统,其中,f1≠f2

12.如前述权利要求任一项所述的照明系统,包含聚光器(72),所述聚光器具有其中布置所述第二光栅板(76)的前焦面(88)。

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