[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统在审
申请号: | 201280076413.7 | 申请日: | 2012-10-27 |
公开(公告)号: | CN104718499A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | M.帕特拉 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/09 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈金林 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
1.一种微光刻投射曝光设备的照明系统,包含光学积分器(70),其中,所述光学积分器包含:
a)第一光栅板(74),其包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列;
b)第二光栅板(76),其包含沿着所述参考方向(X)具有第二焦距f2的第二透镜(84)的阵列;
其中,所述第一透镜的顶点及所述第二透镜的顶点隔开大于所述第二焦距f2的距离d,其中,d>1.01·f2。
2.如权利要求1所述的照明系统,其中,d>1.02·f2。
3.如权利要求2所述的照明系统,其中,d>1.05·f2。
4.如前述权利要求任一项所述的照明系统,包含光源(30),其构造为产生具有波长λ的投射光。
5.如权利要求4所述的照明系统,其中,所述第二透镜(84)沿着所述参考方向(X)具有节距p,以及其中,
p2/(λ·f2)<k,其中,k=40。
6.如权利要求5所述的照明系统,其中,k=20。
7.如权利要求6所述的照明系统,其中,k=10。
8.如权利要求4至7中任一项所述的照明系统,其中,所述光学积分器(70)布置在所述光源(30)和空间光调制器(38)之间,所述空间光调制器(38)构造为改变所述照明系统(12)的光瞳面(56)中的空间辐照分布。
9.如权利要求8所述的照明系统,其中,所述空间光调制器包含反射或透明光束偏转元件(42)的光束偏转阵列(40),其中,各光束偏转元件(42)构造为按偏转角来偏转光束,所述偏转角能够响应施加于所述光束偏转元件(42)的控制信号而改变。
10.如权利要求9所述的照明系统,其中,所述光束偏转元件(42)是可倾斜反射镜。
11.如前述权利要求任一项所述的照明系统,其中,f1≠f2。
12.如前述权利要求任一项所述的照明系统,包含聚光器(72),所述聚光器具有其中布置所述第二光栅板(76)的前焦面(88)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司;,未经卡尔蔡司SMT有限责任公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280076413.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。