[发明专利]表面处理粉体以及掺合了该粉体的化妆品在审

专利信息
申请号: 201280074429.4 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN104411285A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 长谷川幸夫 申请(专利权)人: 三好化成株式会社
主分类号: A61K8/19 分类号: A61K8/19;A61K8/25;A61K8/29;A61K8/89;A61Q1/10;A61Q1/12;A61Q5/12;A61Q17/04;A61Q19/00;C09C3/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 金明花
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 处理 以及 掺合 化妆品
【权利要求书】:

1.一种化妆品用粉体,其特征在于,以硅凝胶进行表面处理。

2.如权利要求1所述的化妆品用粉体,其特征在于,所述粉体为无机粉体、有机粉体或它们的复合粉体。

3.如权利要求1或2所述的化妆品用粉体,该粉体以硅凝胶进行表面处理,其特征在于,所述硅凝胶是使下式(1)所示的两末端反应性二有机聚硅氧烷和作为交联剂至少含有下式(2)的在1分子中具有2个以上的水解性基团的硅烷偶联剂或下式(3)的反应性有机聚硅氧烷的任一种的有机聚硅氧烷进行水解、缩合反应而得;

[化1]

R1R22SiO-(R22SiO)L-SiR1R22   (1)

R1为水解性基团的羟基、氨基、乙酰氧基、烷氧基、氢原子,R2为非取代或取代的碳数1~20的1价烃基,L为3~10000;

[化2]

R3R4nsix(3-n)   (2)

R3为选自碳数1~20的1价烃基、氨基、氨基乙基、巯基、异氰酸酯基、苯基的基团,R4为选自碳数0~3的1价低级烷基、苯基的基团,X为羟基或烷氧基,n为0或1;

[化3]

R53SiO-(R52SiO)n-SiR53   (3)

R5为水解性基团或非取代或取代的碳数1~20的1价烃基,水解性基团为羟基、氨基、乙酰氧基、烷氧基、氢原子的任一种,n为3~1000,在1个分子中至少具有3个水解性基团。

4.如权利要求1~3中的任一种所述的化妆品用粉体,其特征在于,所述硅凝胶在25℃下形变率为17%,通过剪切频率4Hz时的动态粘弹性测定的复数模量为3000~100000Pa,损耗系数tanδ为1.0~2.5。

5.如权利要求1~4中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,上式(1)的二有机聚硅氧烷为聚二甲基硅氧烷醇。

6.如权利要求5所述的化妆品用粉体,其特征在于,将对上式(1)的二甲基硅氧烷单位L数为3~1000的所述聚二甲基硅氧烷醇进行机械乳化而得的水乳液用作进行表面处理的起始原料。

7.如权利要求5所述的化妆品用粉体,其特征在于,将对上式(1)的二甲基硅氧烷单位L数为3~1000的所述聚二甲基硅氧烷醇进行乳液聚合而得的水乳液用作进行表面处理的起始原料。

8.如权利要求5所述的化妆品用粉体,其特征在于,将通过将八甲基环四硅氧烷作为起始原料进行乳液聚合而得的聚二甲基硅氧烷醇的水乳液用作进行表面处理的起始原料。

9.如权利要求6~8中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,所述聚二甲基硅氧烷醇的水乳液中含有的表面活性剂至少包含酰化氨基酸。

10.如权利要求6~9中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,所述聚二甲基硅氧烷醇的水乳液中的聚二甲基硅氧烷醇重量(A)和表面活性剂量(B)的掺合重量比(B)/(A)×100低于6.0。

11.如权利要求1~10中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,上式(2)的硅烷偶联剂的有机基团R3为氨基或苯基的任一种。

12.如权利要求1~11中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,所述硅凝胶和化妆品用粉体的重量比为100/0.1~100/25.0。

13.如权利要求1~12中的任一项所述的化妆品用粉体,其特征在于,在水溶性溶剂和化妆品用粉体的混合状态为毛细管或浆料的任一种状态下,在化妆品用粉体的存在下分别添加或同时添加所述(1)的两末端反应性二有机聚硅氧烷和所述(2)的硅烷偶联剂或上述(3)的有机聚硅氧烷的工序中,通过至少使部分进行水解、缩合反应的工序而得。

14.化妆品,其特征在于,含有0.1重量%以上的权利要求1~13中的任一项所述的以硅凝胶进行表面处理的化妆品用粉体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三好化成株式会社,未经三好化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280074429.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top