[发明专利]膜厚测量装置和成膜装置

权利要求书

1.一种膜厚测量装置，其特征在于，

所述膜厚测量装置具备：

照射装置，为了测量形成于被测量用基板的膜的光学膜厚，所述照射装置通过由光纤构成的照射侧光纤向所述被测量用基板照射光；

受光装置，为了测量所述光学膜厚，所述受光装置通过由光纤构成的受光侧光纤接收从所述照射装置照射后由所述被测量用基板反射的光；和

探头，所述探头是捆扎多个所述照射侧光纤和多个所述受光侧光纤而形成的，

该探头在与所述被测量用基板对置的一侧所具备的作为端面的对置面上，分别配置有多个所述照射侧光纤的端面和多个所述受光侧光纤的端面，

在所述对置面上，配置有多个的所述照射侧光纤的各个端面以都与至少一个所述受光侧光纤的端面相邻的状态排列成圆弧状或圆环状，并且，配置有多个的所述受光侧光纤的各个端面以都与至少一个所述照射侧光纤的各个端面相邻的状态排列成圆弧状或圆环状，所述照射侧光纤的端面所构成的列和所述受光侧光纤的端面所构成的列以构成彼此反向的螺旋的方式排列，

在所述对置面和所述被测量用基板之间没有设置光学部件，所述探头以所述对置面与所述被测量用基板的、位于与形成所述膜的一侧相反的一侧的非成膜面对置。

2.根据权利要求1所述的膜厚测量装置，其特征在于，

构成所述探头的多个所述照射侧光纤和多个所述受光侧光纤构成了端面在所述对置面上平齐的束状光纤，

所述对置面和成膜面之间的距离在所述束状光纤的直径的2倍以上。

3.根据权利要求2所述的膜厚测量装置，其特征在于，

所述被测量用基板是圆盘状或圆环状的基板。

4.根据权利要求1所述的膜厚测量装置，其特征在于，

所述膜厚测量装置具有：

所述照射装置；

直流稳定电源，所述直流稳定电源对所述照射装置所具备的光源供给直流电流；

所述探头；

分光器，所述分光器具备所述受光装置，并且输出与所述受光装置接收到由所述被测量用基板反射的光时的受光强度相对应的模拟信号；

放大器，所述放大器对从该分光器输出的所述模拟信号进行放大；

A/D转换器，所述A/D转换器将由该放大器放大后的所述模拟信号转换成数字信号；

电子计算机，所述电子计算机基于所述数字信号计算所述光学膜厚；和

信号处理电路，所述信号处理电路介于所述A/D转换器和所述电子计算机之间，所述信号处理电路用于在所述电子计算机计算所述光学膜厚时对所述数字信号执行预定的信号处理。

5.一种成膜装置，所述成膜装置通过在真空容器内将蒸镀材料蒸镀于基板的表面而在所述基板上形成膜，

所述成膜装置的特征在于，

所述成膜装置具备：

蒸发机构，所述蒸发机构用于使所述蒸镀材料蒸发；

开闭部件，所述开闭部件为了切断该蒸发机构所蒸发的所述蒸镀材料朝向所述基板的表面时的行进路径而进行开闭动作；

控制机构，所述控制机构控制该开闭部件的开闭；和

权利要求1至4中的任意一项所述的膜厚测量装置，

在所述基板和所述被测量用基板双方收纳于所述真空容器内的状态下，为了将所述蒸镀材料蒸镀于所述基板和所述被测量用基板双方的表面，所述蒸发机构使所述蒸镀材料蒸发，所述膜厚测量装置测量形成于所述被测量用基板的膜的所述光学膜厚，所述控制机构根据所述膜厚测量装置对所述光学膜厚的测量结果来控制所述开闭部件的开闭。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

在所述基板上形成多层膜的期间，在所述真空容器内配置同一个所述被测量用基板，并且在所述被测量用基板上也形成所述多层膜，

所述膜厚测量装置逐层测量形成于所述被测量用基板的所述多层膜中的各层膜的所述光学膜厚。