[发明专利]超导磁体的调整方法

说明书

技术领域

本发明涉及超导磁体的调整方法。

背景技术

作为揭示了在MRI(MagneticResonanceImaging：核磁共振成像)装置中对高精度的磁场调整进行辅助的方法的背景文献，具有日本专利特开2011-110065号公报(专利文献1)。

在专利文献1所记载的磁场调整方法中，具有向磁场产生装置提供目标磁场分布的区域，降低该区域的磁场分布的误差磁场分量，使其接近目标的磁场分布。作为调整单元，具有如下方面：配置有电流环路、被动地发生磁化的铁片等磁性体、或不依赖于外部磁场的永磁体。

具体而言，在规定个数的点进行磁场测量，计算出与目标磁场之差即误差磁场，求出能近似地对该误差进行校正的磁场调整机构面上的电位分布。将该电位分布换算成磁矩，进行配置与该磁矩相当的环路电流或者磁性体片的磁场调整操作。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2011－110065号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

为了进行磁场调整而进行匀场(shimming)，然而，用于进行匀场而作用于垫片(shim)的电磁力会导致有反作用力作用于超导磁体。若不考虑该电磁力及反作用力来进行匀场，则不能使超导磁体的磁场的均匀性稳定。

本发明是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于，提供一种能使磁场的均匀性稳定的超导磁体的调整方法。

解决技术问题的技术方案

基于本发明的超导磁体的调整方法是对由超导磁体在规定空间内产生的磁场的均匀性进行调整的方法。超导磁体的调整方法包括：对规定空间中的磁场进行测定的步骤；以及在超导磁体内配置强磁性体的多个垫片来进行匀场的步骤。在进行匀场的步骤中，将多个垫片配置于以下位置，即，在基于测定磁场的步骤的测定结果使磁场均匀的位置，且使因磁场而作用于多个所述垫片的电磁力为规定值的位置。

发明效果

根据本发明能使磁场的均匀性稳定。

附图说明

图1是表示MRI装置的外观的立体图。

图2是表示本发明的实施方式1所涉及的超导磁体的结构的剖视图。

图3是表示将相同实施方式的超导磁体设置于使用场所的状态的侧视图。

图4是从图3的IV-IV线箭头方向观察到的图。

图5是表示相同实施方式的超导磁体中的匀场部的立体图。

图6是表示相同实施方式的垫片盘和铁片的分解立体图。

图7是表示相同实施方式所涉及的超导磁体的调整方法的流程图。

图8是表示在相同实施方式所涉及的超导磁体中配置有多个铁片的状态的剖视图。

图9是从箭头IX方向观察图8的超导磁体的侧视图。

图10是表示作用于仅考虑磁场均匀性而配置的比较方式的铁片的电磁力、以及作用于考虑磁场均匀性和电磁力而配置的本实施方式的铁片的电磁力的图。

图11是示意性表示电磁力作用于相同实施方式中的多个铁片的状态的局部剖视图。

图12是示意性表示电磁力作用于本发明的实施方式2中的多个铁片的状态的局部剖视图。

图13是示意性表示电磁力作用于相同实施方式的变形例中的多个铁片的状态的局部剖视图。

图14是示意性表示电磁力作用于本发明的实施方式3中的多个铁片的状态的局部剖视图。

具体实施方式

下面，参照附图，对本发明的实施方式1所涉及的超导磁体的调整方法进行说明。在以下的实施方式的说明中，对图中的相同或相当部分标注相同的标号，且不对其进行重复说明。

另外，在以下的实施方式中，对MRI用超导磁体进行说明，但超导磁体并不限于此，也可以是用于其它用途的超导磁体。此外，对圆筒形的超导磁体进行了说明，但并不一定限定于圆筒形的超导磁体，开放型的超导磁体也能应用于本发明。

(实施方式1)

图1是表示MRI装置的外观的立体图。如图1所示，MRI装置1包括静磁场产生部10和睡台30。静磁场产生部10包括后述的超导磁体，在孔20内部产生静磁场。

图2是表示本发明的实施方式1所涉及的超导磁体的结构的剖视图。如图2所示，在本发明的实施方式1所涉及的超导磁体100中，在最外侧，配置有中空圆筒状的真空槽110。真空槽110的圆筒中心部的空间是与孔20相对应的孔部160。真空槽110的内部由未图示的减压装置减压成了真空。利用配置于下部的脚部170对真空槽110进行支撑，使孔部160的中心轴呈水平方向。