[发明专利]氟化物喷涂覆膜的形成方法及氟化物喷涂覆膜覆盖部件

权利要求书

1.一种氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，在基材表面或经前处理的基材表面上，利用将如Ar、N₂、He或它们的混合气体的不活泼气体作为成膜用工作气体的喷涂枪，在保持于温度600℃～1300℃的喷涂气体环境中，以飞行速度：500m/sec.以上的速度喷洒氟化物喷涂材料，由此覆盖形成氟化物喷涂覆膜，该氟化物喷涂覆膜由该氟化物喷涂微粒的至少一部分以形成侵入基材表面的凹部的植毛构造的方式附着而成。

2.如权利要求1所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，在前述基材表面或经前处理的基材表面上，在氟化物的喷涂之前，首先以飞行速度150～600m/sec.的喷洒速度喷涂碳化物金属陶瓷材料，从而覆盖形成碳化物金属陶瓷的膜状底涂层。

3.如权利要求1所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，在前述基材表面或经前处理的基材表面，在氟化物的喷涂之前，首先以飞行速度150～600m/sec.的喷洒速度喷涂碳化物金属陶瓷材料，从而形成以面积率计为8～50％的部分以稀疏且如桩般插入的状态附着的碳化物金属陶瓷的喷涂微粒散布部。

4.如权利要求1或2所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，前述氟化物喷涂覆膜的植毛构造由下述方式构成：氟化物的喷涂微粒的至少一部分以侵入基材表面或碳化物金属陶瓷的底涂层表面的凹部、或者碳化物金属陶瓷的喷涂微粒散布部的微粒间的间隙的方式附着，或以串刺于前端部的状态结合而成。

5.如权利要求1所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，非膜状的碳化物金属陶瓷的前述喷涂微粒散布部使喷涂的碳化物金属陶瓷喷涂微粒的至少一部分以在基材表面稀疏且插入而如桩林立的状态附着于该基材而形成。

6.如权利要求1至5项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于前述前处理为进行去脂、除垢、表面粗糙化及预热中的一种以上处理。

7.如权利要求6所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，前述表面粗糙化处理为：在基材表面喷洒像Al₂O₃、SiC这样的研磨材，使表面粗糙度为Ra：0.05～0.74μm、Rz：0.09～2.0μm左右。

8.如权利要求1至7项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，前述基材使用Al及其合金、Ti及其合金、含碳的钢铁、各种不锈钢、Ni及其合金、氧化物、氮化物、碳化物、硅化物、碳烧结体中的任一者。

9.如权利要求1至8项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，前述氟化物喷涂覆膜在基材表面喷洒从周期表IIa族的Mg、周期表IIIb族的Al、周期表IIIa族的Y、原子序号57～71的镧系金属的镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镏(Lu)的氟化物中选出的一种以上的粒径为5μm～80μm的氟化物微粒，从而形成20μm～500μm的膜厚的覆膜。

10.如权利要求1至9项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，采用以不活泼气体为成膜用工作气体的喷涂法，喷射氟化物微粒时的该喷涂枪的喷嘴前端与基材表面的距离保持5～50mm的间隔。

11.如权利要求1至10项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，喷涂微粒的飞行速度设为600m/sec.以上800m/sec.以下的速度。

12.如权利要求1至10项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，喷涂微粒的飞行速度设为650m/sec.以上1000m/sec.以下的速度。

13.如权利要求1至12项中任一项所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，工作气体及喷涂气体环境的温度设为700℃以上1300℃以下。

14.如权利要求2所述的氟化物喷涂覆膜的形成方法，其特征在于，前述碳化物金属陶瓷的底涂层为喷洒由WC-Co、WC-Ni-Cr、WC-Co-Cr、Cr₃C₂-Ni-Cr等中选出的一种以上碳化物金属陶瓷微粒所形成的厚度达到30～200μm的层。