[发明专利]用于发光装置的反射器有效
| 申请号: | 201280065323.8 | 申请日: | 2012-04-05 |
| 公开(公告)号: | CN104204055A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | B·卢 | 申请(专利权)人: | 提克纳有限责任公司 |
| 主分类号: | C08K3/00 | 分类号: | C08K3/00;C08L67/02;C08K5/5317 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 柳冀 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 发光 装置 反射 | ||
1.用于生产模制部件的组合物,其包含:
约20wt%-约60wt%的聚(对苯二甲酸1,4-环己二甲酯);
约0.01wt%-约3wt%的稳定剂,抗氧化剂稳定剂包括具有如下的 磷基团的有机磷化合物:
其中
R1为H、C1-C20烷基、未取代的或C1-C4烷基取代的苯基,或 未取代的或C1-C4烷基取代的萘基;和
R2为H、C1-C20烷基、未取代的或C1-C4烷基取代的苯基,或 未取代的或C1-C4烷基取代的萘基,或Mr+r,其中Mr+为r价金属阳 离子或铵离子。
2.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物包括磷酸酯或 膦酸酯或膦酸盐或膦酸。
3.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物具有下式:
其中
R1为H、C1-C20烷基、未取代的或C1-C4烷基取代的苯基,或 未取代的或C1-C4烷基取代的萘基;
R2为H、C1-C20烷基、未取代的或C1-C4烷基取代的苯基,或 未取代的或C1-C4烷基取代的萘基,或Mr+r,其中Mr+为r价金属阳 离子或铵离子;
n为0-6的整数,并且r为1-4的整数;
A为氢、-X-C(O)-OR8,或如下基团:
R3或R4为H、C1-C18烷基、OH、卤素或C3-C7环烷基;
R5或R6为氢、C1-C4烷基、环己基,或被1-3个C1-C4烷基基 团取代的环己基;
R7为氢、甲基、三甲基甲硅烷基、苯甲基、苯基、磺酰基或C1-C18 烷基;
R8为氢、C1-C10烷基或C3-C7环烷基;和
X为亚苯基、C1-C4烷基基团取代的亚苯基或C1-C4烷基基团取 代的亚环己基;并且其中组合物不含亚磷酸酯化合物或亚膦酸酯化合 物,或以小于0.1wt%的量包含亚磷酸酯化合物或亚膦酸酯化合物。
4.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物包括:
5.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物包括:
6.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物包括膦酸二乙 基1-苯基乙酯、膦酸二乙基2-苯基乙酯、膦酸二乙基苯甲酯,或其混 合物。
7.权利要求1中限定的组合物,其中有机磷化合物包括磷酸三苯 酯、磷酸三丁酯、磷酸三甲苯酯、磷酸-2-乙基己基二苯酯、磷酸甲苯 二苯酯、低聚磷酸乙基乙二酯、双酚A双(磷酸二苯酯)、间苯二酚双(磷 酸二苯酯),或其混合物。
8.权利要求1中限定的组合物,其中组合物具有大于约90%的在 460nm下的初始反射率,并且具有大于约86的初始白度指数。
9.权利要求1中限定的组合物,其进一步包含白色颜料。
10.权利要求9中限定的组合物,其中组合物进一步包含无机填 料。
11.模制反射器,所述反射器由聚合材料模制,所述聚合材料包含 聚(对苯二甲酸1,4-环己二甲酯)和稳定剂,所述稳定剂包含具有至少一 个磷有机磷化合物,所述磷具有+5价态,所述有机磷化合物以约0.01 wt%-约5wt%的量存在于聚合材料中。
12.权利要求11中限定的模制反射器,其中有机磷化合物包括膦 酸酯或膦酸盐或膦酸。
13.权利要求11中限定的模制反射器,其中有机磷化合物包括磷 酸酯。
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