[发明专利]压模及其制造方法、以及成型体的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及压模及其制造方法、以及成型体的制造方法。

本申请要求了基于2011年12月27日在日本提出的日本特愿2011-285652号的优先权，将其内容引用到本申请中。

背景技术

近年来提出为了赋予防反射性、防雾性、防污性、防水性等而在表面具有微细凹凸结构的功能性薄膜等的成型体。尤其已知称为蛾眼(Moth-Eye)结构的微细凹凸结构表现出优异的防反射性。

作为在成型体的表面形成微细凹凸结构的方法，存在对材料的表面直接加工的方法；使具有与微细凹凸结构相对应的反转结构的压模(铸模)转印该结构的转印法等，从生产率、经济性的观点出发后者的方法优异。作为在压模上形成反转结构的方法，已知电子束描绘法、激光干涉法等，但近年来作为更简便地形成反转结构的方法，关注对铝基材的表面进行阳极氧化的方法。

通过对铝基材的表面进行阳极氧化而形成的阳极氧化铝为铝的氧化皮膜(耐酸铝，alumite)，具有由周期为可见光的波长以下的多个凹部(细孔)而成的微细凹凸结构。

此外，也提出了在表面具有使微细凹凸结构重叠于散射光程度大小的粗糙的凹凸结构的凹凸结构(以下称为“多重凹凸结构”)的压模。

例如，专利文献1中公开了具备具有辐射线的波长的大致10～100倍左右的平均大小的结构体的微观结构体和具备周期性序列的微观结构体的基材。

专利文献2中公开了一种压膜，其用于形成下述防反射膜：在2维的大小为1μm以上且不足100μm的多个第1凸部之上以及它们之间形成有2维的大小为10nm以上且不足500nm的多个第2凸部，并且形成相对于多个第1凸部的表面的膜面的上升角为90°以上的防反射膜。

专利文献3中公开了一种压膜的制造方法，其对表面的算术平均粗糙度Ra为0.3μm以下的铝基材进行阳极氧化，使存在于铝基材的表面的金属间化合物脱落，从而使粗糙的凹凸结构形成于表面，与此同时使微细凹凸结构形成于该粗糙的凹凸结构上的压模的制造方法。

结果，在表面仅具有微细凹凸结构的成型体的防反射性虽然优异，但透过率过高，因此存在称为成型体表面的缺口、伤、污染的成型体的略微的缺陷明显。此外，将成型体贴附到对象物上时，也存在以往不成问题的对象物的缺陷、与对象物的摩尔纹(moire)明显的情况。

另一方面，多重凹凸结构被转印到表面的成型体成为在防反射性的基础上、还具有由粗糙的凹凸结构产生的防眩性的成型体。此外，多重凹凸结构被转印到表面的成型体通过具有防眩性从而成型体的缺陷、摩尔纹变得不明显。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2001-517319号公报

专利文献2：日本专利第4583506号公报

专利文献3：日本特开2010-256636号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，专利文献1中记载的方法中，使光致抗蚀层曝光从而形成微观结构体，因此制造大面积的压模时是不合适的，生产率良好地制造成型体是困难的。此外，将专利文献1中记载的微观结构体的形成方法应用于高纯度铝基材的情况下，高纯度铝非常柔软，因此表面成为极端粗糙的状态。其结果，存在转印有所得到的压模的多重凹凸结构的成型体容易产生表面炫目、褪色、发白等缺陷或图像清晰度容易降低，外观品质损伤的问题。

此外，专利文献2、3中记载的压模的制造方法中，粗糙的凹凸结构的大小容易依赖于铝基材的杂质。因此，杂质均匀地分散于铝基材中时，转印有压模的多重凹凸结构的成型体容易产生不均、炫目、褪色等缺陷、图像清晰度的降低等，难以制造再现性良好、外观品质优异的成型体。

此外，在专利文献2中记载的压模中，将多重凹凸结构转印到成型体的表面之后，难以脱模，难以将第1凸部的形状制成上升角度为90°以上的形状。

本发明是鉴于上述事情而成的，以提供可以生产率良好、简便地制造具有防反射性以及防眩性，并且外观品质优异的成型体的压模及其制造方法、以及使用该压模的成型体的制造方法为课题。

用于解决问题的方案

本发明人等深入研究，结果在压模的制造过程中，发现通过在对铝基材进行阳极氧化之前进行喷砂处理，从而得到能够制造外观品质优异的成型体的压模，从而完成本发明。

本发明具有以下的特征。