[发明专利]光刻设备、器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光设备，包括：

投射系统，所述投射系统配置将多个辐射束投射到目标上；

可移动框架，所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转；

致动器系统，用以使可移动框架旋转；和

控制器，用以调节可移动框架的位置，以至少部分地补偿可移动框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，包括多个可移动框架，每一个所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转并且被公共框架支撑，其中所述另一可移动框架是所述多个可移动框架中的一个。

3.根据权利要求2所述的曝光设备，其中所述控制器配置成调节可移动框架的位置，使得可移动框架施加在公共框架上的力与通过所述另一可移动框架作用在公共框架上的力结合而导致有效地抵消这些力。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的曝光设备，其中所述可移动框架的位置的调节包括所述可移动框架的相位角的改变。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其中相位角的改变包括相位角从所述可移动框架的多个透镜中的一个透镜的角位置至所述可移动框架的所述多个透镜中的另一个透镜的角位置的改变。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的曝光设备，还包括测量系统，所述测量系统配置成测量至少一个可移动框架的不平衡。

7.根据权利要求6所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成获得所述至少一个可移动框架在被干扰时在与其旋转频率不同的频率下的第一测量信号，并且将所述第一测量信号与所述至少一个可移动框架在其旋转频率下的第二测量信号比较，以获得不平衡的位置。

8.根据权利要求7所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成通过使用不平衡的位置以及对于所述第一和第二测量信号使用相同的频率来确定不平衡的幅度。

9.根据权利要求7或8所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成在多个不同频率下获得所述第一测量信号。

10.根据权利要求6所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成通过测量支撑所述至少一个可移动框架的框架的位置、振动和/或施加至支撑所述至少一个可移动框架的所述框架的力来确定不平衡。

11.根据权利要求6所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成通过使用辐射传感器测量投射通过所述至少一个框架的透镜的辐射来确定所述不平衡。

12.一种曝光设备，包括：

投射系统，所述投射系统配置成将多个辐射束投射到目标上的各个部位；

可移动框架，所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转；

致动器系统，用以使所述框架旋转；和

控制器，用以调节所述多个辐射束中的至少一个辐射束的特性，以至少部分地补偿所述框架的不平衡或施加至所述框架的不平衡。

13.根据权利要求12所述的曝光设备，其中所述控制器配置成计算所述多个辐射束中的每个辐射束的目标强度值、以将所述目标曝光至想要的图案，并且控制每个辐射束的对应的目标强度值，其中所述控制器配置成参考所述不平衡计算目标强度值，以至少部分地补偿所述框架的不平衡或施加至所述框架的不平衡。

14.根据权利要求13所述的曝光设备，其中所述控制器配置成使用对应每个辐射束的、用于模型化所述束与相邻束之间的交叉耦合的函数来计算目标强度值。

15.根据权利要求14所述的曝光设备，其中所述函数依赖于所述多个部位中的每个部位相对于投射系统的位置。