[发明专利]填充有活性物质的膜形态的阴极电极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201280064954.8 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN104011903A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 李柱明;梁佑荣;川上总一郎;张东圭;郑现珠 申请(专利权)人: 三星精密化学株式会社
主分类号: H01M4/02 分类号: H01M4/02;H01M4/38;H01M4/62;H01M4/04
代理公司: 北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338 代理人: 张习义;李延虎
地址: 韩国蔚*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 填充 活性 物质 形态 阴极 电极 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种阴极电极,其包含多孔性膜基材、及填充至上述多孔性膜基材的细孔中的阴极活性物质纳米粒子。

2.如权利要求1所述的阴极电极,所述多孔性膜基材的细孔中以单独或混合的方式进一步填充有粘合剂或导电助剂。

3.如权利要求1所述的阴极电极,所述多孔性膜基材的细孔具有0.01至10μm的直径。

4.如权利要求1所述的阴极电极,所述阴极活性物质为合金系阴极活性物质。

5.如权利要求2所述的阴极电极,所述粘合剂从由聚偏二氟乙烯PVDF及聚酰亚胺PI组成的组中选择一种以上。

6.如权利要求2所述的阴极电极,所述导电助剂从由石墨烯、石墨烯类似物、石墨及碳纤维组成的组中选择一种以上。

7.一种阴极电极的制造方法,其包括:

准备多孔性膜基材的步骤;

将阴极活性物质纳米粒子分散于有机溶剂中,制造活性物质浆料的步骤;及

将所述分散于有机溶剂中的活性物质浆料填充至所述多孔性膜基材的细孔中的步骤。

8.如权利要求7所述的阴极电极的制造方法,所述活性物质浆料以单独或混合的方式进一步包含粘合剂或导电助剂。

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