[发明专利]粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运行方法

权利要求书

1.一种粒子射线治疗装置，其特征在于，具备：

加速器，该加速器具有使用了磁体的铁芯的偏转电磁铁，且将粒子射线调整成规定能量来射出；

照射装置，该照射装置根据照射对象的形状，照射由所述加速器所提供的粒子射线；以及

控制部，该控制部联动地控制所述加速器和所述照射装置，

所述控制部中设置有：

运转模式保持部，该运转模式保持部中，作为所述加速器周期反复的运转模式，保持有多个运转模式，该多个运转模式中，能够射出所述粒子射线的时间不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在所述磁体存在磁滞的情况下，也能够使所述加速器的偏转电磁铁产生所希望的磁场强度；

照射条件读取部，该照射条件读取部对于在深度方向分割所述照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；

运转模式选择部，该运转模式选择部根据所述照射条件读取部所读取出的照射条件，从多个所述运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及

主控制部，该主控制部对于每个切片，根据选择的所述运转模式来控制所述加速器，并且根据所述照射条件来控制所述照射装置。

2.如权利要求1所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述运转模式选择部在多个所述运转模式中的、对该切片上给予剂量所需的周期数较少的运转模式之中，选择能够射出所述粒子射线的时间最短的运转模式。

3.如权利要求1或2所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

对多个所述运转模式中的至少2个运转模式进行设定，以使得将所述规定能量设定得较大的运转模式中，能够射出所述粒子射线的时间更长。

4.如权利要求1至3中任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

对多个所述运转模式中的至少2个运转模式进行设定，以使得所述规定能量相同，且能够射出所述粒子射线的所述时间不同。

5.一种粒子射线治疗装置的运转方法，其特征在于，

所述粒子射线治疗装置具备：加速器，该加速器具有使用了磁体的铁芯的偏转电磁铁，且将粒子射线调整成规定能量来射出；以及运转模式保持部，该运转模式保持部中，作为所述加速器周期反复的运转模式，保持有多个运转模式，该多个运转模式中，能够射出所述粒子射线的时间不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在所述磁体存在磁滞的情况下，所述加速器的偏转电磁铁也能产生所希望的磁场强度，

在运转该粒子射线治疗装置的方法中，包括：

照射条件读取工序，该照射条件读取工序中对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；

运转模式选择工序，该运转模式选择工序中根据所述照射条件读取工序所读取出的照射条件，从多个所述运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及

对于每个所述切片、根据所选择的运转模式对所述加速器进行控制的工序。