[发明专利]基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法有效
| 申请号: | 201280063563.4 | 申请日: | 2012-10-11 |
| 公开(公告)号: | CN104011597A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
| 发明(设计)人: | 加藤正纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B13/24;G02B13/22;G02B17/08 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 汤在彦 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基底 处理 装置 器件 制造 系统 以及 方法 | ||
1.一种基底处理装置,具备投影光学系统,该投影光学系统将来自配置于照明光的照明区域的第1物体的图案的光束投射于配置第2物体的投影区域,其具备:
第1支承构件,以在所述照明区域与所述投影区域中的一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状的第1面的方式支承所述第1物体与第2物体中的一方;以及
第2支承构件,以在所述照明区域与所述投影区域中的另一方区域中沿着既定第2面的方式支承所述第1物体与第2物体中的另一方;
所述投影光学系统具备偏向构件,该偏向构件是以从所述照明区域至所述投影区域的成像光束的主光线中所述第1面与所述投影光学系统间的主光线朝向所述第1面的径方向中与所述第2面为非垂直的径方向的方式使所述成像光束传播。
2.如权利要求1的基底处理装置,其中,所述投影光学系统的偏向构件将所述成像光束偏向成从所述照明区域射出于法线方向的主光线从法线方向射入所述投影区域。
3.如权利要求1或2的基底处理装置,其中,所述投影光学系统包含形成所述照明区域的中间像且将所述中间像投影于所述投影区域、配置于形成所述中间像的位置的视野光阑。
4.如权利要求3的基底处理装置,其中,所述投影光学系统包含将来自所述照明区域的主光线偏向成与所述视野光阑正交的偏向构件。
5.如权利要求1至4中任一项的基底处理装置,其中,所述投影光学系统配置成通过所述一方区域的主光线行进于所述非垂直的径方向。
6.如权利要求1至5中任一项的基底处理装置,其中,所述投影光学系统包含:
第1投影模组,将在第1所述照明区域的所述图案的像投影于第1所述投影区域;
第2投影模组,将在与所述第1照明区域在所述第1面的轴方向位置相异的第2所述照明区域的所述图案的像,投影于与被投影所述第1照明区域的像的区域的一部分重叠的第2所述投影区域。
7.如权利要求6的基底处理装置,其中,所述第2投影模组,相对包含与所述第1面的轴方向及所述第2面垂直的径方向的面,配置成从所述第1支承构件观看时与所述第1投影模组对称。
8.如权利要求6或7的基底处理装置,其中,从所述第1面的轴方向观看时所述第2面中对应所述第1投影模组的第1所述另一方区域至对应所述第2投影模组的第2所述另一方区域的沿着所述第2面的长度,与所述第1面中对应所述第1投影模组的第1所述一方区域至对应所述第2投影模组的第2所述一方区域的沿着所述第1面的距离相同。
9.如权利要求1至8中任一项的基底处理装置,其中,所述投影光学系统将配置于所述照明区域的所述第1物体的图案的像以等倍投影于所述投影区域;
所述第2面包含曲率半径与所述第1面相同的圆筒状的面。
10.如权利要求1至9中任一项的基底处理装置,其中,所述第2面包含平面。
11.如权利要求1至10中任一项的基底处理装置,其中,所述第1支承构件能将形成有所述图案的光掩膜作为所述第1物体保持于所述第1面,以所述第1面的曲率中心为旋转轴线旋转。
12.如权利要求1至11中任一项的基底处理装置,其中,所述第2支承构件具备搬送装置,该搬送装置包含将所述第2面界定为既定半径的圆筒面且能旋转于所述圆筒面的周方向的旋转圆筒构件,将所述第2物体卷绕于所述旋转圆筒构件的圆筒面一部分,沿所述第2面搬送所述第2物体。
13.一种器件制造系统,具备权利要求1至12中任一项的基底处理装置。
14.一种器件制造方法,包含:
通过权利要求1至12中任一项的基底处理装置使所述第2物体曝光;以及
通过处理所述曝光后的所述第2物体来形成所述第1物体的图案。
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