[发明专利]玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板。

背景技术

近年来，随着HDD(硬盘驱动器)的存储容量飞跃性地增大，必不可少地需要减小1比特所使用的介质的记录面积。并且，为了减小记录面积而进行高密度化，需要使头与盘的距离更稳定而进行记录的读写。

但是，为此需要降低作为盘的基板的玻璃基板的表面粗糙度Ra，但是目前所提出的表面粗糙度Ra为左右(日本特开2008-097821号公报(专利文献1))，要求进一步降低表面粗糙度Ra(算术平均粗糙度)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-097821号公报

发明内容

发明要解决的课题

如上所述为了降低玻璃基板的表面粗糙度Ra，需要高精度的抛光技术，然而在这样的抛光技术中使用的氧化铈等抛光材料的成本高涨，因此必须抑制其用量。

但是，为了在抑制氧化铈等抛光材料的用量的抛光条件下获得具有低表面粗糙度Ra的玻璃基板，要求化学耐久性优异并使表面状态高度稳定化、以及具有适度的强度特性，但是尚未提供具有这样的特性的玻璃基板。

本发明是鉴于这样的状况而进行的，其目的在于提供一种玻璃基板，该玻璃基板的化学耐久性优异并能够使表面状态高度稳定化，同时在维氏硬度、杨氏模量、断裂韧性等方面具有适度的强度特性，由此可以在具有适宜的物性值的同时以高抛光速率(单位时间的抛光量)实现低表面粗糙度Ra。

用于解决课题的方案

本发明的玻璃基板的特征在于，该玻璃基板含有下述玻璃组成，该玻璃组成以摩尔％表示具有

SiO₂：58％～74％、

Al₂O₃：0％～5％、

B₂O₃：0％～5％、

Li₂O：0％～3％、

Na₂O：0.1％～6％、

K₂O：3％～9％、

MgO：2％～10％、

CaO：8％～18％、

ZnO：0％～5％、

TiO₂：0％～5％、

ZrO₂：1％～8％的含量范围，

并且满足0.01<ZrO₂/(SiO₂+Al₂O₃+B₂O₃)<0.15的条件。

此处，上述玻璃基板优选为HDD用玻璃基板，另外反转式抛光工序后的表面粗糙度Ra在1μm×1μm的范围优选为以下。

另外，本发明的玻璃基板优选含有下述玻璃组成，该玻璃组成以摩尔％表示具有

SiO₂：61％～71％

Al₂O₃：0％～3％

B₂O₃：0％～3％

Li₂O：0％～2％

Na₂O：1％～5％

K₂O：4％～8％

MgO：4％～9％

CaO：9％～16％

ZnO：0％～3％

TiO₂：0％～3％

ZrO₂：2％～7％的含量范围，

并且满足0.02<ZrO₂/(SiO₂+Al₂O₃+B₂O₃)<0.12的条件。

另外，上述玻璃组成优选不含有BaO，优选经由化学强化工序进行制造。

发明的效果

本发明的玻璃基板通过具有上述构成而显示出以下优异的效果：可以在具有适宜的物性值的同时以高抛光速率实现低表面粗糙度Ra。

具体实施方式

下面，对本发明进行更详细的说明。

<玻璃基板>

本发明的玻璃基板的特征在于，该玻璃基板含有下述玻璃组成，该玻璃组成以摩尔％(mol％)表示具有

SiO₂：58％～74％、