[发明专利]B2F4制造方法

权利要求书

1.一种反应器系统，包括：

反应区，用于在有效形成中间物质的温度和压力条件下使BF₃气体与含硼固体接触；

开口，用于允许BF₃气体的未反应部分和所述中间物质离开所述反应区进入冷凝区，所述冷凝区用于实现所述中间物质和所述BF₃气体的所述未反应部分之间的反应，以形成包含B₂F₄的反应产物；

回收区，用于回收(1)包含B₂F₄的所述反应产物和(2)气体产物，其包含未反应的BF₃气体以及和所述未反应的BF₃气体一起回收的杂质；以及

再循环区，用于将来自所述气体产物的所述未反应的BF₃气体再循环到所述反应区，

其中，所述再循环区包括有效减少所述气体产物中的所述杂质的纯化区。

2.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述反应区包括金属壳体和金属反应腔室。

3.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述纯化区包括冷却至低温的容器。

4.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述回收区包括过滤区，用于除去来自所述反应产物和所述气体产物的固体颗粒。

5.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述含硼固体包括化学计量组成的含硼化合物。

6.根据权利要求1所述的反应器系统，包括配置为将所述反应区中的温度维持在预定温度范围内的热控制器组件。

7.根据权利要求1所述的反应器系统，包括包含暴露的晶面的含硼固体。

8.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述含硼固体包括单晶形式的含硼固体，包括对三氟化硼具有不同反应性的晶面，其中所述单晶含硼固体的表面区域的主要部分包括比所述单晶含硼固体的一个或多个其他晶面对三氟化硼具有更高反应性的晶面的表面区域。

9.根据权利要求8所述的反应器系统，其中，所述单晶形式的含硼固体包括元素硼单晶颗粒。

10.根据权利要求1所述的反应器系统，其中，所述冷凝区通过在低温范围内冷却所述中间物质和所述BF₃气体的所述未反应部分，实现所述中间物质和所述BF₃气体的所述未反应部分之间的反应，以形成包含B₂F₄的反应产物，并且其中，通过使用液压升降机控制所述低温范围，所述液压升降机被配置为以向上和向下方向中选择的一个方向，在最高位置和最低位置之间转移含有能够在低温冷却的材料的容器。

11.一种反应器系统，包括：

反应区，用于在有效形成中间物质的温度和压力条件下使气态试剂与固体材料接触，其中，所述反应区包括双壁石英护套；

开口，用于允许所述气态试剂的未反应部分和所述中间物质离开所述反应区进入包括不锈钢容器的冷凝区；以及

围绕所述开口的密封件，所述密封件将所述反应区密封连接到所述冷凝区，其中，所述密封件在真空或超大气压下有效地将所述反应区密封连接到所述冷凝区。

12.根据权利要求11所述的反应器系统，其中，所述密封件包括设置在对开法兰下方的包含全氟弹性体材料的O形环，所述对开法兰有效地保持所述密封件上的压力。