[发明专利]光隔离器无效
申请号: | 201280060030.0 | 申请日: | 2012-12-07 |
公开(公告)号: | CN104145209A | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 矢作晃;渡边聪明;牧川新二 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 隔离器 | ||
1.一种光隔离器,其用于320nm~633nm波长带,上述光隔离器的特征在于,包括:波长405nm中的费尔德常数为0.70分钟/(Oe·cm)以上的法拉第转子;以及第1中空磁铁与第2中空磁铁单元及第3中空磁铁单元,上述第1中空磁铁配置于上述法拉第转子的外周,上述第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元是在光轴上夹着上述第1中空磁铁而配置,
上述第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元包含相对于上述光轴而在90度方向上等分割的2个以上的磁铁,对上述法拉第转子施加的磁通密度B(Oe)处于下述式(1)的范围内,配置上述法拉第转子的样品长L(cm)处于下述式(2)的范围内。
0.8×104≦B≦1.5×104 (1)
0.25≦L≦0.45 (2)
2.如权利要求1所述的光隔离器,其中,上述法拉第转子含有95重量%以上的下述式(I)所表示的氧化物.。
Yb2O3 (I)
3.如权利要求2所述的光隔离器,其中上述氧化物为单晶体。
4.如权利要求2所述的光隔离器,其中,上述氧化物为陶瓷。
5.如权利要求1-4中任一项所述的光隔离器,其中,上述法拉第转子在样品长L(cm)中具有1dB以下的插入损耗与30dB以上的消光比。
6.如权利要求1-5中任一项所述的光隔离器,其中上述第1中空磁铁与上述第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元包含钕-铁-硼(NdFeB)系磁铁。
7.如权利要求1-6中任一项所述的光隔离器,其中将上述第1中空磁铁的磁场极性设为光轴方向,使上述第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元的磁场极性在光轴法线方向上彼此相反。
8.如权利要求1-7中任一项所述的光隔离器,其中第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元是将圆筒磁铁按90度四分割的4块磁铁的集合体。
9.如权利要求1-8中任一项所述的光隔离器,还包括:
2片以上的平板双折射结晶及1片以上的45度旋光元件。
10.如权利要求9所述的光隔离器,其中上述平板双折射结晶的光学轴相对于光轴为大致45度方向,且厚度为1.0cm以上。
11.如权利要求1-10中任一项所述的光隔离器,其中上述第1中空磁铁、上述第2中空磁铁单元及上述第3中空磁铁单元被搭载于碳钢框体的内部。
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