[发明专利]具有可加热场致发射电子发射器的X射线管和操作其的方法在审

专利信息
申请号: 201280058403.0 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN103959422A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: A·K·多卡尼亚;G·福格特米尔;P·K·巴赫曼 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: H01J35/06 分类号: H01J35/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘瑜;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 具有 加热 发射 电子 发射器 射线 操作 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线管(1),包括:

电子发射器(3),其具有电子发射表面(5),所述电子发射表面具有粗糙度,所述电子发射表面适于在施加电场时,从所述电子发射表面的电子的场致发射;

场发生器(7),其用于生成与所述电子发射器的所述电子发射表面毗邻的电场,以诱发从所述电子发射表面的电子的场致发射;

加热器装置(15),其适于与电子的所述场致发射同时地加热所述电子发射表面。

2.根据权利要求1所述的X射线管,其中,所述电子发射表面包括碳纳米管(19)。

3.根据权利要求2所述的X射线管,其中,所述碳纳米管被直接涂覆到所述电子发射器衬底的表面上。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的X射线管,其中,所述加热器装置适于将所述电子发射表面加热到100℃和1000℃之间的提高的温度。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的X射线管,其中,所述加热器装置适于使用焦耳加热、辐照加热和通过介质的热传递之一来加热所述电子发射表面。

6.根据权利要求5所述的X射线管,其中,所述加热器装置包括被布置于电子发射器衬底(4)处的电阻式元件(17),以在向所述电阻式元件施加电流时加热所述电子发射表面。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的X射线管,还包括加热器装置控制器(23),所述加热器装置控制器适于控制向所述电子发射器的所述加热器装置的能量供应,以将所述电子发射表面加热到预定义温度范围。

8.根据权利要求7所述的X射线管,其中,所述加热器装置控制器适于控制供应给被布置于所述电子发射器的所述电子发射器衬底处的电阻式元件的电流,以加热所述电子发射表面。

9.根据权利要求1到8中任一项所述的X射线管,其中,所述场发生器包括被布置为与所述电子发射表面毗邻的导电网格(11),并且所述场发生器还包括与所述电子发射表面以及与网格(9)的电连接,以在所述电子发射表面和所述网格之间生成电场,并且

其中,所述网格适于使得从所述电子发射表面发射的电子可以向着所述X射线管的阳极透射通过所述网格。

10.一种医疗X射线设备,包括根据权利要求1到9中任一项所述的X射线管。

11.一种操作根据权利要求1到9中任一项所述的X射线管(1)的方法,所述方法包括:

生成与所述电子发射表面(5)毗邻的电场,以诱发从所述电子发射表面的电子的场致发射;并且

向所述加热器装置(15)供应能量以加热所述电子发射表面。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,同时执行所述电场的生成和向所述加热器装置的能量供应。

13.根据权利要求11或12所述的方法,其中,在生成所述电场之前向所述加热器装置供应能量,以预先处理所述电子发射表面。

14.根据权利要求11到13中任一项所述的方法,将所述电子发射表面加热到超过100℃但低于温度上限的提高的温度,在所述温度上限处,热电子发射变得大于场诱发的电子发射的10%。

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