[发明专利]液晶取向膜的制造方法、液晶取向膜及液晶显示元件

权利要求书

1.一种液晶取向膜的制造方法，其包括：

[I]在基板上形成在规定的温度范围内体现出液晶性的感光性的侧链型高分子膜的工序；

[II]对所述侧链型高分子膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]对经所述紫外线照射的侧链型高分子膜加热的工序；

其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内，ΔA是所述侧链型高分子膜的、与所述偏振紫外线的偏振方向平行的方向的紫外线吸光度和与所述偏振紫外线的偏振方向垂直的方向的紫外线吸光度之差。

2.如权利要求1所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在所述ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～50％的范围内。

3.如权利要求1或2所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，[III]工序的加热温度是比所述侧链型高分子膜体现出液晶性的温度范围的下限高10℃的温度～比该温度范围的上限低10℃的温度的范围内的温度。

4.如权利要求1～3中任一项所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，所述体现出液晶性的感光性的侧链型高分子中所含有的感光性基团是偶氮苯、茋、肉桂酸、肉桂酸酯、查耳酮、香豆素、二苯乙炔、苯甲酸苯酯或其衍生物。

5.一种液晶取向膜的制造方法，其包括：

[I]在基板上形成在规定的温度范围内体现出液晶性的光交联性的侧链型高分子膜的工序；

[II]对所述光交联性侧链型高分子膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]对经所述紫外线照射的侧链型高分子膜加热的工序；

[IV]对照射过所述紫外线、然后经过加热的侧链型高分子膜照射非偏振紫外线的工序；

其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内，ΔA是所述侧链型高分子膜的、与所述偏振紫外线的偏振方向平行的方向的紫外线吸光度和与所述偏振紫外线的偏振方向垂直的方向的紫外线吸光度之差。

6.如权利要求5所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在所述ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～50％的范围内。

7.如权利要求5或6所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，[III]工序的加热温度是比所述侧链型高分子膜体现出液晶性的温度范围的下限高10℃的温度～比该温度范围的上限低10℃的温度的范围内的温度。

8.如权利要求5～7中任一项所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，通过[IV]工序的紫外线照射，所述侧链型高分子膜所具有的光交联性基团的20摩尔％以上发生反应。

9.如权利要求5～8中任一项所述的液晶取向膜的制造方法，其特征在于，所述体现出液晶性的光交联性的侧链型高分子中所含有的感光性基团是肉桂酸、肉桂酸酯、查耳酮、香豆素、二苯乙炔或其衍生物。