[发明专利]在高频范围内作为电介质的微晶玻璃无效
申请号: | 201280058033.0 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN103958428A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 胡贝图斯·布劳恩;马丁·莱茨;贝恩特·拉丁格;达妮埃拉·塞勒 | 申请(专利权)人: | 肖特公开股份有限公司 |
主分类号: | C03C4/16 | 分类号: | C03C4/16;C03C10/00;H01B3/08 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 郭国清;穆德骏 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高频 范围内 作为 电介质 玻璃 | ||
1.一种微晶玻璃,其至少具有以下成分(基于氧化物以摩尔%计):
其中RE是镧、另外的镧系元素或钇,且其中Ti可以部分地、优选限定的Ti含量的最高达10%被Zr、Hf、Y、Nb、V、Ta代替,且其中孔隙率<0.5%。
2.根据权利要求1所述的微晶玻璃,其至少具有以下成分(基于氧化物以摩尔%计):
其中RE是镧、另外的镧系元素或钇,且其中Ti可以部分地、优选限定的Ti含量的最高达10%被Zr、Hf、Y、Nb、V、Ta代替。
3.一种微晶玻璃,其至少具有以下成分(基于氧化物以摩尔%计):
其中RE是镧、另外的镧系元素或钇,且其中Ti可以部分地、优选限定的Ti含量的最高达10%被Zr、Hf、Y、Nb、V、Ta代替,且其中孔隙率<0.5%。
4.根据权利要求3所述的微晶玻璃,其包含15摩尔%到30摩尔%的La2O3。
5.根据权利要求3或4所述的微晶玻璃,其包含15摩尔%到30摩尔%的Nd2O3。
6.根据权利要求1或2所述的微晶玻璃,其中B2O3的分数<9摩尔%、优选≤8摩尔%。
7.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其中所述孔隙率<0.1%、优选<0.01%。
8.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其中所述TiO2含量大于41摩尔%。
9.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其包含0.01摩尔%到最高达3摩尔%的至少一种优选选自As2O3和Sb2O3的精炼剂。
10.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其在高频范围内(频率f>200MHz)具有不超过10-2、优选不超过10-3的介电损耗(tanδ)。
11.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其具有至少15、优选>18、优选在20到80的范围内的相对介电常数ε。
12.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其中谐振频率的温度依赖性的绝对值|τf|不超过200ppm/K、优选不超过50ppm/K、更优选不超过10ppm/K。
13.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其包含至少一个基于RE、Ti、Si、O和任选地Ba的固溶相,其中Ba可以至少部分地被Sr、Ca、Mg代替,其中RE是镧系元素或钇,且其中Ti可以至少部分地被Zr、Hf、Y、Nb、V、Ta代替。
14.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其包含至少一个选自(BaO)x(RE2O3)y(SiO2)z(TiO2)u的固溶相,其中RE是镧、另外的镧系元素或钇,其中最高达10%的Ba可以被Sr、Ca、Mg代替,且其中最高达10%的Ti可以被Zr、Hf、Y、Nb、V、Ta代替。
15.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其具有至少30体积%、优选最高达95体积%的晶化率。
16.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的微晶玻璃,其具有10纳米到50微米、优选100纳米到1微米的平均晶粒尺寸。
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