[发明专利]微结构化转移带有效

专利信息
申请号: 201280057290.2 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103946329A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 奥德蕾·A·舍曼;凯文·R·谢弗;罗伯特·L·布劳特;罗尔夫·W·比尔纳特;约瑟夫·W·V·伍迪;约翰·A·惠特利 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02;B41M5/40;G02B6/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 丁业平;金小芳
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 微结构 转移
【权利要求书】:

1.一种转移带,包括:

具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层,其包含光学透明的组合物,所述光学透明的组合物包括:

交联聚合物组合物,其中所述第一主表面或所述第二主表面中的至少一个包括在所述表面上的微结构化图案,使得所述微结构化图案成为所述粘合剂表面的永久性特征,并且其中所述微结构化表面改变光的方向。

2.根据权利要求1所述的转移带,其中所述交联聚合物组合物包含:

具有小于20℃的Tg和酸或碱官能团的低Tg聚合物组分;以及

具有大于20℃的Tg和酸或碱官能团的高Tg聚合物组分,其中当混合时,所述低Tg聚合物组分的所述官能团和所述高Tg聚合物组分的所述官能团形成酸碱相互作用。

3.根据权利要求2所述的转移带,其中所述低Tg聚合物组分包含压敏粘合剂。

4.根据权利要求3所述的转移带,其中所述压敏粘合剂包括(甲基)丙烯酸酯基压敏粘合剂。

5.根据权利要求2所述的转移带,其中所述低Tg聚合物组分为硅氧烷改性的。

6.根据权利要求2所述的转移带,其中所述高Tg聚合物组分包含Tg大于20℃的至少一种(甲基)丙烯酸酯基聚合物。

7.根据权利要求2所述的转移带,其中所述光学透明的组合物包含:

50-80重量%的低Tg聚合物组分;以及

20-50重量%的高Tg聚合物组分。

8.根据权利要求1所述的转移带,其中所述粘合剂层不是压敏粘合剂层。

9.根据权利要求1所述的转移带,其中所述粘合剂层具有在1.4-1.8范围内的折射率。

10.根据权利要求1所述的转移带,还包括附接至所述粘合剂层的所述微结构化表面的微结构化隔离衬片。

11.一种制备制品的方法,包括:

制备包括粘合剂层和隔离衬片的转移带;

将所述转移带附接到基底;以及

将所述转移带的所述隔离衬片移除,

其中所述转移带包括具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层,所述粘合剂层包含光学透明的组合物,所述光学透明的组合物包括:

交联聚合物组合物,其中所述第一主表面或所述第二主表面中的至少一个包括在所述表面上的微结构化图案,使得所述微结构化图案成为所述粘合剂表面的永久性特征,并且其中所述微结构化表面改变光的方向。

12.根据权利要求11所述的方法,其中所述交联聚合物组合物包含:

具有小于20℃的Tg和酸或碱官能团的低Tg聚合物组分;以及

具有大于20℃的Tg和酸或碱官能团的高Tg聚合物组分,其中当混合时,所述低Tg聚合物组分的所述官能团和所述高Tg聚合物组分的所述官能团形成酸碱相互作用。

13.根据权利要求11所述的方法,其中制备所述转移带包括:

提供微结构化隔离衬片;以及

将一层光学透明的组合物涂布到所述隔离衬片的所述微结构化表面上。

14.根据权利要求13所述的方法,其中将一层光学透明的组合物涂布到所述隔离衬片的所述微结构化表面上包括热熔涂布、溶剂型涂布或100%固体涂布。

15.根据权利要求13所述的方法,还包括对所得涂覆层进行干燥、固化或交联。

16.根据权利要求13所述的方法,其中所述微结构化隔离衬片还包括在所述隔离衬片的所述微结构化表面上的连续的或不连续的材料层。

17.一种制品,包括:

具有至少一个外表面的基底;以及

粘附到所述基底表面的转移带,所述转移带包括:具有第一主表面和第二主表面的粘合剂层,其包含光学透明的组合物,所述光学透明的组合物包括:

交联聚合物组合物,

其中所述第一主表面或所述第二主表面中的至少一个包括在所述表面上的微结构化图案,使得所述微结构化图案成为所述粘合剂表面的永久性特征,并且

其中所述微结构化表面改变光的方向。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280057290.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top