[发明专利]尿排量处理装置和方法

权利要求书

1.一种用于借助于处理器自动地确定尿处理系统的第一表面的表面变质的方法，所述第一表面用来与尿接触，所述方法包括下述主要步骤：

a)重复地测量所述第一表面的一个或更多个电容值，形成电容测量结果；

b)存储所述电容测量结果的所有时刻或代表时刻；

c)基于存储的所述电容测量结果的变化，判断所述第一表面发生了明显的表面变质。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过将最新值与先前值进行比较来执行所述判断，使得将在第一预定周期期间测量的第一最低值或在第二预定周期期间测量的第二最低值与在最新的周期期间测量的最新的最低值进行比较，如果发现所述最新的最低值比所述第一最低值或者所述第二最低值高了预定量，则判断所述第一表面发生了明显的表面变质。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一表面是所述尿处理系统的可更换部件的表面，以及其中，所述可更换部件具有与尿接触的腔侧和接近的外侧，所述接近的外侧不用来与尿接触但非常接近所述腔侧，以及其中，用于电容测量的电极被布置为紧密地安装到所述可更换部件的所述接近的外侧。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述接近的外侧是与所述第一表面直接相对但在分隔壁的另一侧上的表面。

5.一种用于确定尿处理系统的表面的表面变质的装置，所述装置包括：

-尿处理系统的第一表面，所述第一表面暴露于尿；

-电容传感器，所述电容传感器能够重复测量包括所述第一表面的结构的一个或更多个电容值，形成一系列的测量结果；

-信号处理系统，所述信号处理系统连接到所述电容传感器并且能够处理相继的电容测量结果，

其中，所述信号处理系统被配置为通过基于存储的所述电容测量结果的变化进行判断来判断所述第一表面发生了明显的表面变质。

6.根据权利要求4所述的装置，其中，通过将最新值与先前值进行比较来执行所述判断，使得将在第一预定周期期间测量的第一最低值或在第二预定周期期间测量的第二最低值与在最新的周期期间测量的最新的最低值进行比较，如果发现所述最新的最低值比所述第一最低值或者所述第二最低值高了预定量，则判断所述第一表面发生了明显的表面变质。

7.根据权利要求5所述的装置，其中，所述第一表面是所述尿处理系统的可更换部件的腔侧的表面，以及其中，所述腔侧被布置为与所述尿接触，以及其中，所述可更换部件具有接近的外侧，所述接近的外侧不用来与尿接触但非常接近所述腔侧的所述第一表面，以及其中，用于电容测量的电极被布置为紧密地安装到所述可更换部件的所述接近的外侧。

8.根据权利要求6所述的装置，其中，所述接近的外侧是与所述第一表面直接相对但在分隔壁的另一侧上的表面。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述分隔壁是测量室或管或导管的壁。