[发明专利]装有对水平度缺失很不敏感的分配元件的气液混合物的分配器盘

权利要求书

1.一种用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，该分配器盘位于反应器的各个水平处，该反应器可包括多个催化床，从而确保产生的气液混合物在位于所述盘下游的催化床上的均匀分配，所述盘设有分配元件，该分配元件以方形或三角形图案在盘的表面上规则地分配，分配元件由两个基本上共轴的圆柱体构成，该圆柱体被称为内部圆柱体（1），其具有直径（d1）和高度（h1），以及外部圆柱体（2），其具有直径（d2）和高度（h2），该外部圆柱体相对于盘平面升高了高度（h3），将两个圆柱体分开的下部水平表面（5）被封闭并且位于分配器盘的底部上方的高度（h3）处，该高度（h3）在10至100mm的范围内，优选地在20mm至60mm的范围内，外部圆柱体（2）的侧壁设有至少一个基本上竖直的槽（4），用于允许气体和液体进入环形区域（3），气液混合物作为上升流在环形区域（3）中被夹带，然后经由其上部开口（6）通入内部圆柱体（1），并且在内部圆柱体（1）内侧下落，然后经由位于内部圆柱体（1）下端处的开口（7）被排出。

2.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中具有高度（h4）的竖直的槽（4）数量在1至3的范围内，优选地在1至2的范围内。

3.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中分配元件之间的间距为尺寸在100至200mm的范围内的方形或三角形图案。

4.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中分配元件的总高度在200至400mm的范围内。

5.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中分配元件的尺寸如下：

（h2）在100至500mm的范围内，优选地在200至400mm的范围内；

（d2）在15至300mm的范围内，优选地在50至200mm的范围内；

（h1）在100至500mm的范围内，优选地在200至400mm的范围内；

（d1）在10至100mm的范围内，优选地在25至75mm的范围内；

（h4）在10至500mm的范围内，优选地在100至300mm的范围内；

（ef）在1至5mm的范围内，优选地在1至3mm的范围内；

（h3）在10至100mm的范围内，优选地在20至60mm的范围内；

其具有如下标记：

（h2）：外部圆柱体高度（h2）；

（d2）：外部圆柱体直径（d2）；

（h1）：内部圆柱体高度（h1）；

（d1）：内部圆柱体直径（d1）；

（h4）：气液混合物的入口槽高度（h4）；

（ef）：气液混合物的入口槽宽度（ef）；

（h3）：外部圆柱体相对于盘底部平面的高度（h3）。

6.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中用于气体和液体的通道的槽具有三角形形状，三角形顶点指向上或者指向下。

7.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中内部的和外部的两个圆柱体不是精确地共轴，而是偏离中心达它们两轴之间的距离，该距离在0至（d2-d1）/4的范围内。

8.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中分配器盘由一组锥形导流板实现，该导流板形成所述盘的整体部件，每个导流板置于分配元件之下，锥的扩大部分指向下。

9.根据权利要求1所述的用于向下流动的并流模式中的气液流的分配器盘，其中分配器盘由一组筛来实现，该筛形成所述盘的整体部件并且置于盘下游离所述盘一定距离处，该距离在20至300mm的范围内，优选地在50至150mm的范围内，各种筛元件也被置于不同的平面中。

10.根据权利要求1所述的分配器盘在包含4至20个碳原子，优选地8至20个碳原子的石油馏分的加氢处理、氢化作用或氧化作用的工艺中的使用。

11.根据权利要求1所述的分配器盘在使用“滴流床”模式中的气体和液体的并流向下流动的任意工艺中的使用，此模式即液体的表面速度在0.1至1.5cm/s的范围内。