[发明专利]石墨烯制造用铜箔及其制造方法、以及石墨烯的制造方法有效
| 申请号： | 201280053628.7 | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN104024156A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 千叶喜宽 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;B21B1/40;B21B3/00;C22C9/00;C22C9/02;C22F1/08;C23C16/26;C22F1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 庞立志;孟慧岚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 制造 铜箔 及其 方法 以及 | ||
1.石墨烯制造用铜箔，其中，轧制平行方向的算术平均粗糙度Ra1与轧制直角方向的算术平均粗糙度Ra2之比（Ra1/Ra2）为0.7≤（Ra1/Ra2）≤1.3。
2.权利要求1所述的石墨烯制造用铜箔，其中，在含有20体积%以上的氢且剩余部分为氩的气氛中在1000℃加热1小时后，比（Ra1/Ra2）为0.8≤（Ra1/Ra2）≤1.2。
3.权利要求1或2所述的石墨烯制造用铜箔，其由JIS-H3100规格的韧铜、JIS-H3100规格的无氧铜、JIS-H3510规格的无氧铜、或者相对于前述韧铜或前述无氧铜合计含有0.001质量%以上且0.15质量%以下的选自Sn和Ag的组中的1种以上的元素的组成构成。
4.权利要求1～3中任一项所述的石墨烯制造用铜箔，其中，表面的轧制平行方向和轧制直角方向的60度光泽度均为200%以上。
5.权利要求1～4中任一项所述的石墨烯制造用铜箔的制造方法，其中，
对铜箔基材的表面进行深度0.5μm以上的电解研磨。
6.权利要求1～4中任一项所述的石墨烯制造用铜箔的制造方法，其中，
在最终冷轧的最终道次，使用轧制辊的圆周方向的算术平均粗糙度Ra1roll与宽度方向的算术平均粗糙度Ra2roll之比Ra1roll/Ra2roll为0.8≤（Ra1roll/Ra2roll）≤1.2的轧制辊进行轧制。
7.石墨烯的制造方法，其使用了权利要求1～4中任一项所述的石墨烯制造用铜箔，该方法具有下述步骤，
石墨烯形成步骤：在规定的室内配置进行了加热的前述石墨烯制造用铜箔，并且供给氢气和含碳气体，在前述石墨烯制造用铜箔的前述铜镀覆层的表面形成石墨烯；
石墨烯转印步骤：在前述石墨烯的表面层叠转印片，将前述石墨烯转印至前述转印片上，同时将前述石墨烯制造用铜箔蚀刻除去。
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