[发明专利]杀有害生物的化合物有效
申请号: | 201280053466.7 | 申请日: | 2012-10-31 |
公开(公告)号: | CN104024225A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | O·罗瑟勒尔;T·皮特纳;A·C·欧苏利万;T·卢克施;A·基克瓦 | 申请(专利权)人: | 先正达参股股份有限公司 |
主分类号: | C07D213/60 | 分类号: | C07D213/60;C07D239/28;A61K31/44;A61K31/505;A61P33/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张敏 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有害生物 化合物 | ||
1.一种具有式(I)的化合物,其中
其中
R1是氢、甲基或者卤素;
R2是氢、甲基或者卤素;
R3是氢、甲基或者卤素;
R4是氢、甲基或者卤素;
R5是经取代的或者未经取代的苯基;
R6是氢或者C1-C4-烷基;
R7是氢、氰基、羟基、甲酰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C1-C4-烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C4-氰基烷基、C1-C4-烷基羰基、C1-C4-烷氧基羰基、苄基、C3-C6-环烷基羰基或者C3-C6-环烷氧基羰基;
A1是N、C-H或者C-X;
A2是N、C-H或者C-X;
A3是N、C-H或者C-X;
A4是N、C-H或者C-X;
A5是N、C-H或者C-X;
其条件是其中A1&A5每个是N,那么A2至A4独立地选自CH、CX以及N;或者其中A2是CX,那么A1、A3至A5独立地选自CH、N或者CX;或者其中A1是CX并且A5是N,那么A2至A4独立地选自CX以及CH;或者其中A1是CX并且A5是CH,那么A2至A4中的一者是CX并且其余每个是CH;或者其中A1是CX并且A4是N,那么A2、A3以及A5独立地选自CX以及CH;或者其中A1是除C-卤素外的并且A2是N,那么A3、A4以及A5独立地选自CX以及CH;
X是卤素、OH、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-卤烷基、C1-C4-烷氧基或者C1-C4-卤烷氧基;
其条件是A1至A5的至多三个是N;
连同其可接受的盐、对映异构体、非对映异构体、互变异构体以及N-氧化物。
2.根据权利要求1所述的化合物,其中R1至R4每个是氢;R5是经取代的或者未经取代的苯基;R6是氢或者C1-C4-烷基;R7是氢、C1-C4-烷基羰基或者C1-C4-烷氧基羰基;并且A1&A5每个是N时,那么A2至A4独立地选自CH、CX以及N;或者A2是CX,那么A1、A3至A5独立地选自CH、N或者CX;或者A1是CX并且A5是N,那么A2至A4独立地选自CX以及CH;或者A1是CX并且A5是CH,那么A2至A4中的一者是CX并且其余每个是CH;或者A1是CX并且A4是N,那么A2、A3以及A5独立地选自CX以及CH;其中X彼此独立地是卤素、C1-C4-烷基或者C1-C4-卤烷基。
3.权利要求1中所定义的具有式(I)的化合物,其中R1至R4每个是氢;R5是经取代的或者未经取代的苯基;R6是氢或者C1-C4-烷基;R7是氢、C1-C4-烷基羰基或者C1-C4-烷氧基羰基;A1是除C-卤素外的,A2是N并且A3、A4以及A5独立地选自CX以及CH;其中X彼此独立地是卤素、C1-C4-烷基或者C1-C4-卤烷基,连同其可接受的盐、对映异构体、非对映异构体、互变异构体以及N-氧化物。
4.根据权利要求3所述的化合物,其中A1是C-C1-C4-卤烷基,A2是N,并且A3、A4以及A5独立地选自CX以及CH;其中X彼此独立地是卤素、C1-C4-烷基或者C1-C4-卤烷基;优选地是,A1是C-CF3,A2是N并且A3、A4以及A5每个是CH。
5.根据权利要求1所述的化合物,其中R1至R4是每个是氢;R5是经二或三取代的苯基,其中这些取代基独立地选自卤素、氰基、C1-C4-卤烷基、C1-C4-卤烷氧基、以及C3–C6-环烷基,该环烷基是未经取代的或者经一或多个取代基Rx取代的,其中Rx是彼此独立地选自卤素、C1-C4-烷基、以及C1-C4-卤烷基;R6是氢或C1-C4-烷基;R7是氢、C1-C4-烷基羰基、或C1-C4-烷氧基羰基,并且A1&A5每个是N,那么A2至A4独立地选自CH、CX以及N;或A2是CX,那么A1、A3至A5独立地选自CH、N或CX;或A1是CX并且A5是N,那么A2至A4独立地选自CX以及CH;或A1是CX并且A5是CH,那么A2至A4中的一者是CX并且其余的每个是CH;或A1是CX并且A4是N,那么A2、A3以及A5独立地选自CX以及CH;其中X彼此独立地是卤素、C1-C4-烷基、或C1-C4-卤烷基。
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