[发明专利]全息图无效
申请号: | 201280053281.6 | 申请日: | 2012-08-31 |
公开(公告)号: | CN104024959A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 西蒙·理查德·吉奥弗里·霍尔;理查德·弗雷德里克·史蒂文斯 | 申请(专利权)人: | 英国政府商业创新与技能部 |
主分类号: | G03H1/04 | 分类号: | G03H1/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全息图 | ||
1.一种包括提供全息图的衍射结构的衬底,所述衍射结构对全息图像进行编码,使得响应于参考光以相对衬底主表面的入射角入射在所述衬底主表面上来产生全息图像,其中所述入射角不超过20°。
2.根据权利要求1所述的衬底,其中所述入射角不超过15°,优选地至少为5°,最优选地实质为10°或8.5°和10°之间。
3.根据权利要求1或2所述的衬底,其中响应于参考光以相对所述衬底主表面的所述入射角入射在衬底主表面的外表面上,来产生所述全息图像。
4.根据前述任一权利要求所述的衬底,其中所述衬底的主表面形成衬底与真空或流体之间的界面。
5.根据权利要求4所述的衬底,其中所述流体是空气。
6.根据前述任一权利要求所述的衬底,其中所述衬底的衍射结构提供透射全息图。
7.根据前述任一权利要求所述的衬底,包括卤化银。
8.根据权利要求7所述的衬底,其中所述卤化银的颗粒尺寸不超过20nm。
9.一种全息图结构,包括:根据前述任一权利要求所述的衬底和参考光源,其中所述参考光源设置用于将参考光以所述入射角入射到所述衬底主表面上。
10.根据权利要求9所述的全息图结构,其中所述光源配置为发射P偏振的参考光。
11.根据权利要求9或10所述的全息图结构,其中所述参考光源是相干或实质上相干的光源,优选地是激光二极管。
12.根据权利要求9到11中任一项所述的全息图结构,包括反射表面,所述反射表面设置为向所述衬底主表面反射来自参考光源的参考光。
13.根据权利要求9到12中任一项所述的全息图结构,其中所述衍射结构具有长度和垂直于所述长度的宽度,所述长度垂直于以所述入射角入射的参考光的传播方向,其中所述结构配置为引起来自参考光源的参考光沿平行于所述衍射结构的长度的方向发散,以便至少照射所述衍射结构的整个长度。
14.一种制造全息图的方法,包括:
用第一光束照射物体,使得从物体散射的光传到光敏介质;
用与所述第一光束相干的第二光束照射所述光敏介质,其中所述第二光束以相对于光敏介质的法线方向至少70°的角度入射在所述光敏介质上;并随后制造从光敏介质得到的全息图。
15.根据权利要求14所述的方法,其中制造全息图包括制造根据权利要求1至8中任一项所述的衬底。
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