[发明专利]真空蒸汽清洁设备和方法

权利要求书

1.一种清洁设备，其包括：

具有下边缘(158)的清洁头(150)，该清洁头(150)包括：

包封真空室(160)的环形蒸汽室(200)，该环形真空室(200)具有相对于所述下边缘(158)竖直间隔开定位的多个孔(210)；和

蒸气喷嘴(186)，其被配置成提供蒸汽至所述环形蒸汽室(200)，以便穿过所述孔(210)排出并且排到所述真空室(160)内。

2.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：

具有主喷嘴出口(188)的喷嘴(186)，该主喷嘴出口经配置将蒸汽直接排放到所述真空室(160)内。

3.根据权利要求1所述的设备，其中：

所述下边缘(158)被配置成使得所述真空室(160)能够保持与安装表面(254)基本密封接合。

4.根据权利要求3所述的设备，其中：

所述安装表面(254)是非平面的。

5.根据权利要求1所述的设备，其中：

所述清洁头(150)被配置成流体耦合至真空源(118)；和

所述真空源(118)被配置成从所述真空室(160)抽吸所述蒸汽。

6.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：

蒸汽阀(176)，其被配置成调节到所述真空室(160)内的蒸汽流。

7.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：

流体喷射单元(122)，其被配置成导致在被提供至所述清洁头(150)的所述蒸汽中喷射流体；并且

所述流体包括水、洗涤剂和化学品中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：

壳体(106)，所述壳体包括下列中的至少一个：

蒸汽软管(114)，其耦合蒸汽源(112)至所述清洁头(150)；

流体喷射单元(122)，其包含用于喷入所述蒸汽软管的流体，该流体包括水、洗涤剂和化学品中的至少一种；

真空软管(120)，其耦合真空源(118)到所述清洁头(150)；和

废物容器(124)，其耦合至所述真空软管(120)用于接收蒸汽和碎屑中的至少一种。

9.一种清洁系统，其包括：

壳体，其具有蒸汽源(112)；和

清洁头(150)，其具有下边缘(158)且耦合至所述蒸汽源，所述清洁头(150)包括：

环形蒸汽室(200)，其在所述下边缘(158)处打开且包封真空室(160)，所述环形蒸汽室(200)具有与所述下边缘(158)竖直间隔定位的多个离散孔(210)，用于穿过所述孔(210)排出蒸汽到所述真空室(160)内；和

喷嘴(186)，其具有主喷嘴出口(188)，该主喷嘴出口(188)被配置成将蒸汽直接排放到所述真空室(160)内；

所述下边缘(158)被配置成使得所述真空室(160)能够保持与安装表面(254)基本密封接合。

10.根据权利要求9所述的系统，其进一步包括：

真空源(118)，其被配置成从所述真空室(160)抽吸所述蒸汽。

11.根据权利要求9所述的系统，其中：

所述安装表面(254)是非平面的。

12.根据权利要求9所述的系统，其进一步包括：

蒸汽阀(176)，其被配置成调节到所述真空室(160)内的蒸汽流。

13.根据权利要求9所述的系统，其进一步包括：

流体喷射单元(122)，其被配置成导致在被提供至所述清洁头(150)的所述蒸汽中喷射流体；并且

所述流体包括水、洗涤剂和化学品中的至少一种。

14.一种清洁方法，其包括以下步骤：

提供环形蒸汽室(200)，该环形蒸汽室具有下边缘和相对于所述下边缘竖直间隔开定位的多个离散孔；

穿过所述孔(210)排出蒸汽并且排到真空室(160)内；和

将碎屑和蒸汽抽离所述真空室(160)。

15.根据权利要求14所述的方法，其进一步包括以下步骤：

从主喷嘴出口(188)排出蒸汽直接到所述真空室(160)内。