[发明专利]图案化透明导体和相关制备方法

权利要求书

1.图案化透明导体，包括：

基底；和

添加物，其根据图案至少部分嵌入所述基底的至少一个表面并定位在相邻于所述表面，以形成较高薄层电导部分，其中所述较高薄层电导部分横向地相邻于较低薄层电导部分。

2.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述较低薄层电导部分的薄层阻抗是所述较高薄层电导部分的薄层阻抗的至少100倍。

3.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述较高薄层电导部分相互电隔离。

4.权利要求3所述的图案化透明导体，其中所述图案化透明导体进一步包括这样的层，所述层覆盖对应于所述较低薄层电导部分的所述表面的区域。

5.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述添加物在至少一个所述较高薄层电导部分中形成渗透网络。

6.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述添加物的纵横比为至少3。

7.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述较低薄层电导部分和所述较高薄层电导部分基本上是视觉不可分辨的。

8.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述较高薄层电导部分和所述较低薄层电导部分的透射率值差异不大于约5%，所述较高薄层电导部分和所述较低薄层电导部分的雾度值差异不大于约5%。

9.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述添加物对应于第一添加物，并且所述图案化透明导体进一步包括第二添加物，所述第二添加物被包括在所述较低薄层电导部分中。

10.权利要求9所述的图案化透明导体，其中所述第二添加物被嵌入对应于所述较低薄层电导部分的所述表面的区域中的所述基底的表面，并且所述第二添加物在所述较低薄层电导部分中的嵌入程度大于所述第一添加物在所述较高薄层电导部分中的嵌入程度。

11.权利要求9所述的图案化透明导体，其中所述第二添加物被嵌入对应于所述较低薄层电导部分的所述表面的区域中的所述基底的表面，并且所述第二添加物被处理，以抑制渗透网络形成。

12.权利要求9所述的图案化透明导体，其中所述第二添加物被沉积在所述基底表面中对应于所述较低薄层电导部分的区域上。

13.权利要求9所述的图案化透明导体，其中所述图案化透明导体进一步包括图案化层，所述图案化层覆盖对应于所述较低薄层电导部分的所述表面的区域，并且所述第二添加物至少部分掺入所述图案化层。

14.权利要求1所述的图案化透明导体，其中所述添加物对应于第一添加物，所述表面对应于第一表面，并且所述图案化透明导体进一步包括第二添加物，所述第二添加物至少部分嵌入所述基底的至少第二相反表面。

15.触摸屏装置，包括权利要求1所述的图案化透明导体。

16.图案化透明导体，包括：

基底；

涂层，其被布置在所述基底的至少一侧上；和

添加物，其根据图案被嵌入所述涂层的表面，以形成较高薄层电导部分，其中所述添加物定位在距表面的一定深度内，所述深度小于所述涂层的厚度，并且所述较高薄层电导部分被间隙分隔，所述间隙对应于较低薄层电导部分。

17.权利要求16所述的图案化透明导体，其中基本上全部所述添加物均定位在距所述表面不大于所述涂层厚度的75%的深度内。

18.权利要求16所述的图案化透明导体，其中所述添加物包括银纳米丝。

19.权利要求16所述的图案化透明导体，其中所述较高薄层电导部分和所述较低薄层电导部分的吸光度值差异不大于约5%。

20.权利要求16所述的图案化透明导体，其中所述添加物对应于第一添加物，并且所述图案化透明导体进一步包括第二添加物，所述第二添加物被包括在所述较低薄层电导部分中。

21.权利要求20所述的图案化透明导体，其中所述第二添加物被嵌入对应于所述较低薄层电导部分的所述表面的区域内的所述涂层的表面，并且所述第二添加物在所述较低薄层电导部分中的表面覆盖率小于所述第一添加物在所述较高薄层电导部分中的表面覆盖率。