[发明专利]拒墨剂的制造方法、负型感光性树脂组合物、分隔壁以及光学元件

权利要求书

1.一种拒墨剂的制造方法，其特征在于，其为由如下混合物的部分水解缩合物形成的拒墨剂的制造方法，所述混合物包含下式(c-1)所示的水解性硅烷化合物和下式(c-2)所示的水解性硅烷化合物，

所述拒墨剂的制造方法包括以下的工序(I)和工序(II)，

工序(I)：使所述混合物中包含酸，将水解性硅烷化合物(c-2)的氮原子质子化的工序；

工序(II)：使所述混合物中包含水和酸催化剂，将该混合物水解并进行缩合反应的工序，

式(c-1)中，A表示氟原子或下式(1)所示的基团，

-Q³-SiX³₃…(1)

式(c-2)中，D、E分别独立地表示氢原子、键合于碳原子的氢原子可以被-NH₂基取代的碳原子数1～12的1价有机基团或下式(2)所示的基团，

-Q⁴-SiX⁴_(3-j)(R^H2)_j…(2)

式(c-1)、(c-2)中的除A、D、E以外的符号、以及式(1)和(2)中的符号如下，

R^f：碳原子数2～15的可以包含醚性氧原子的全氟亚烷基，

Q¹、Q³：碳原子数1～10的不含氟原子的2价有机基团，

R^H1、R^H2：碳原子数1～6的烃基，

Q²、Q⁴：分别独立地为碳原子数1～6的不含氟原子的2价有机基团，

X¹、X²、X³、X⁴：分别独立地为水解性基团，

p：1或2，

q：0或1、且使p+q为1或2的数，

j：0或1，

其中，X¹～X⁴在式(c-1)和/或式(c-2)内存在多个时、或者E-N(D)-Q²在式(c-2)内存在多个时，它们可以彼此不同，也可以相同。

2.根据权利要求1所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述混合物中的水解性硅烷化合物(c-1)和(c-2)的含有比例是，相对于1摩尔水解性硅烷化合物(c-1)，水解性硅烷化合物(c-2)为0.1～9摩尔。

3.根据权利要求1或2所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述部分水解缩合物的氟原子的含有比率为10～55质量%。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述部分水解缩合物含有硅烷醇基，相对于每1个硅原子，硅烷醇基为0.2～3.5个。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述式(c-2)中的D和E中的任一者为氢原子，另一者为苯环中的氢原子可以被烷基取代的碳原子数6～12的苯基、或者苯环中的氢原子可以被烷基取代的碳原子数7～12的苯基烷基。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述式(c-2)所示的水解性硅烷化合物为N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷或N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述混合物还包含下式(c-3)所示的水解性硅烷化合物，

R^H3_r-SiX⁵_(4-r)…(c-3)

式(c-3)中的符号如下，

R^H3：碳原子数1～6的烃基，

X⁵：水解性基团，

r：0、1或2，

其中，R^H3和X⁵在所述水解性硅烷化合物内存在多个时，它们可以彼此不同，也可以相同。