[发明专利]电子射线杀菌设备的屏蔽结构

说明书

技术领域

本发明涉及对食品和药液等的容器和用具照射电子射线进行杀菌的电子射线杀菌设备的屏蔽结构。

背景技术

如果用于杀灭细胞型微生物而照射的电子射线（阴极射线）与作为屏蔽体配置的金属制屏蔽体（铅等）碰撞，则在衰减的同时作为X射线在宽广范围扩散的状态下被反射、衍射。虽然也取决于电子射线的强度，但例如碰撞屏蔽体3～4次左右，则能够使X射线的强度衰减到不会影响人体的程度。

例如将电子射线照射喷嘴插入容器的口部以对容器的内表面进行杀菌时，从电子射线照射喷嘴横跨全周方向照射电子射线。并且由于对容器高速连续杀菌，所以在使用了收容于遮蔽室中的回转式的旋转输送装置时，将与容器一起旋转移动的电子射线照射喷嘴插入口部进行杀菌。在此，由于电子射线产生装置的供给电压为高压，因而电子射线的照射不能通断，而成为连续性照射。因此，对形成于屏蔽室的容器入口和容器出口泄漏的电子射线（X射线）进行屏蔽和衰减成为大问题。

作为向容器的口部插入电子射线照射喷嘴对容器的内表面进行杀菌的技术，例如公开有专利文献1。此外，专利文献2公开的装置配置有内表面杀菌用的电子射线照射喷嘴和外表面杀菌用的电子射线照射器。

专利文献1：日本专利公表公报特表2009-526971

专利文献2：日本专利公开公报特开2009-35330（图9、10、13、15、16）

然而，专利文献1虽然公开了电子射线照射喷嘴的结构，但是未提及屏蔽体。

此外，专利文献2中尽管与电子射线照射喷嘴一同配置了电子射线照射器，但是未具体说明屏蔽体。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种能够可靠地将X射线的泄漏衰减到不对人体造成恶劣影响程度的电子射线杀菌设备的屏蔽结构。

第一方式的发明中，电子射线杀菌设备的屏蔽结构具备分别收容串联的多条旋转路径（L1～L3）的屏蔽室（R1～R3），并具备杀菌区域（Z2、Z3），所述杀菌区域（Z2、Z3）由外表面杀菌区域（Z2）和内表面杀菌区域（Z3）构成，所述外表面杀菌区域（Z2）在容器输送方向上游侧从分别配置于两条旋转路径（L1、L2）外侧的电子射线照射器（E1、E2）向容器（B）照射电子射线，对容器外表面进行杀菌，所述内表面杀菌区域（Z3）在容器输送方向下游侧向沿一条旋转路径（L3）输送的容器（B）内插入电子射线照射喷嘴（En）以照射电子射线，对容器（B）内表面进行杀菌，其中，在所述杀菌区域（Z2、Z3）的容器入口（P0-1）和容器出口（P3-4），分别设置有使电子射线衰减的入口俘获（trap）区域（Z1）和出口俘获区域（Z4），在所述入口俘获区域（Z1）和所述出口俘获区域（Z4）的至少一方，设置有串联的多条旋转路径，并且设置有分别收容所述多条旋转路径的屏蔽室，沿所述杀菌区域（Z2、Z3）的各旋转路径（L1～L3）的内周部，设置有由金属制屏蔽体构成的杀菌区域内周屏蔽体（S1、S2、S3），沿连接于入口俘获区域（Z1）和/或出口俘获区域（Z4）的旋转路径（L4）以及连接于该旋转路径（L4）的旋转路径（L5）的内周部，分别设置有由金属制屏蔽体构成的俘获区域内周屏蔽体（S4、S5），并满足下述条件（I）和（II）中的至少一方：（I）连接于内表面杀菌区域（Z3）的出口俘获区域（Z4）的上游侧的旋转路径（L4）的内周屏蔽体（S4）的外径（D4），小于连接于该旋转路径（L4）的下游侧的旋转路径（L5）的内周屏蔽体（S5）的外径（D5）；（II）连接于外表面杀菌区域（Z2）的入口俘获区域（Z1）的下游侧的旋转路径（LT2）的内周屏蔽体（ST2）的外径（DT2），大于所述外表面杀菌区域（Z2）的上游侧的旋转路径（L1）的内周屏蔽体（S1）的外径（D1）。

第二方式的发明在第一方式记载的结构的基础上，与连接于所述内表面杀菌区域（Z3）的出口俘获区域（Z4）的上游侧的旋转路径（L4）的内周屏蔽体（S4）的外径（D4）相比，连接于该旋转路径（L4）的下游侧的旋转路径（L5）的内周屏蔽体（S5）的外径（D5）设为1.3～2.5倍的范围。

第三方式的发明在第一方式记载的结构的基础上，连接于所述外表面杀菌区域（Z2）的入口俘获区域（Z1）的下游侧的旋转路径（LT2）的内周屏蔽体（ST2）的外径（DT2），在所述外表面杀菌区域（Z2）的上游侧的旋转路径（L1）的内周屏蔽体（S1）的外径（D1）的1.3～2.5倍的范围。