[发明专利]隐形眼镜清洁系统

说明书

相关申请的交叉引用

本申请依据35U.S.C.§119(e)要求享有2011年10月12日提交的名称为“容纳隐形眼镜溶液的容器”的美国临时申请No.61/546284的优先权，其由此通过引用被整体结合到本申请中。

技术领域

本公开总体涉及眼科学领域，并且更具体地，涉及隐形眼镜清洁系统。

背景技术

隐形眼镜需要被清洁/消毒以去除微生物，氨基酸，脂类和其它来自镜片表面的残渣。通常适用于软性隐形眼镜的两类隐形眼镜清洁/消毒溶液为：多用途消毒溶液和过氧化氢溶液。

使用过氧化氢系统所担忧的包括会对眼部产生毒性和再污染。首先，过氧化氢对眼睛是有害的。因此，过氧化氢系统需要在戴眼镜之前通过催化剂对过氧化氢溶液进行中和。在完全中和之前从溶液中过早取出眼镜可能导致眼部产生毒副反应。能够为过氧化氢的中和提供足够的手段的一些系统无法克服第二种担忧。其次，过氧化氢系统不是保存溶液。在中和之后，过氧化氢溶液变成水（以及通过盖子上的小孔离开的O₂）。当隐形眼镜存放一段时间时，水通常不能为其提供对抗污染的足够保护。眼镜通常需要从中和后的溶液中取出并且在相对很短的时间之后佩戴。长时间没有将眼镜从杯中取出，杯中包含无保护的水，可能使眼镜被条件性微生物再次污染。相反，多用途消毒溶液（MPDS）可以作为良好的保存溶液，但是通常对抗某些真菌尤其是真菌性囊的消毒能力不足。

具有两种常用的H₂O₂系统：一步式H₂O₂系统和两步式H₂O₂系统。在一步式H₂O₂系统中，中和用催化剂从过程的开始对过氧化氢溶液进行中和，而在两步式H₂O₂系统中，中和用催化剂在消毒阶段的结尾被添加进去。虽然两步式H₂O₂系统被示出比多用途消毒溶液（MPDS）和一步式H₂O₂系统更加有效，然而两步式系统由于需要额外的中和H₂O₂溶液的步骤而趋向于不受欢迎。此外，传统的两步式系统通常不能提供安全系统以避免眼部产生毒副反应以及再污染。尽管隐形眼镜清洁系统已经取得了长足发展，仍然存在相当多的缺点。

附图说明

为了提供对本公开及其特征和优点的完全理解，后面的描述参照附图进行标记，相同的参考数字表示相同的部件，其中：

图1A为一般性的三维简要示意图，示出通常用在一步式H₂O₂系统中的眼镜盒（现有技术）；

图1B为一般性的三维简要示意图，示出通常用在一步式H₂O₂系统或两步式H₂O₂系统中的眼镜盒（现有技术）；

图2A至2D为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的某些元件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图3A和3B为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的具体部件，元件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图4A和4B为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的其它具体部件，元件以及可能的实例细节以及潜在的操作；

图5A和5B为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的其它具体部件，元件以及可能的实例细节以及潜在的操作；

图6为三维简要示意图，进一步示出根据本公开的一个或多个实施例的具体部件，某些元件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图7A至7J为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的元件，具体部件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图8A和8B为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的具体部件，元件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图9A和9B为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的其它具体部件，元件和可能的实例细节以及潜在的操作；

图10A至10D为三维简要示意图，示出根据本公开的一个或多个实施例的元件，具体部件和可能的实例细节以及潜在的操作；