[发明专利]近红外遮蔽膜及近红外遮蔽体

说明书

技术领域

本发明涉及近红外遮蔽膜及近红外遮蔽体。

背景技术

近年来，作为节能对策的一环，从减少对冷气设备施加的负荷的观点考虑，安装于建筑物、车辆的窗玻璃而遮蔽太阳光的热射线的透过的近红外遮蔽膜的期望不断提高。

作为近红外遮蔽膜的形成方法，主要提案有使用蒸镀法、溅射法等干式制膜法而形成包含将高折射率层和低折射率层交替层叠了的构成的层叠体单元的方法。但是，干式制膜法具有如下等的课题：用于形成的真空装置等大型，制造成本高，大面积化也困难，且作为可应用的基材限定于耐热性原材料。

近年来，正在积极进行代替具有如上所述的课题的干式制膜法而使用湿式涂布法来形成近红外遮蔽膜的方法的研究。

作为该湿式涂布法的技术，例如在日本特开2003-266577号公报中公开有使用球状金红石型氧化钛粒子的甲醇分散浆料和甲醇二氧化硅溶胶来进行交替层叠的方法。另外，例如在日本特开2004-123766号公报中公开有通过使用了棒涂机的湿式涂布方式将由金红石型的氧化钛、杂环系氮化合物(例如吡啶)、紫外线固化型粘结剂及有机溶剂构成的高折射率涂膜形成用组合物涂布在基材上来形成透明层叠体的方法。进而，例如在日本特开平8-110401号公报中公开有通过使用了棒涂机的湿式涂布方式而将使含有金属氧化物、金属化合物微粒的热固化型有机硅树脂、紫外线固化型丙烯酸类树脂等分散于有机溶剂中了的高折射率层涂布液涂布在基材上来形成透明层叠体的方法。

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在通过日本特开2003-266577号公报及日本特开2004-123766号公报中所公开的制造方法得到的红外遮蔽膜中，由于使用利用表面处理剂将金红石型氧化钛粒子分散于有机溶剂中了的浆料，因此不仅存在钛粒子的粒度分布宽、涂膜中的折射率在面内不均匀这样的问题，而且存在因表面处理剂的影响而导致在长期保存了的过程中涂膜发生变色等耐久性低这样的问题。另外，通过专利文献1中记载的制造方法得到的红外遮蔽膜，由于进行因粒子彼此的粘结所引起的膜形成，因此存在得到的膜脆、柔软性不足这样的问题。进而，在日本特开2004-123766号公报或日本特开平8-110401号公报中所公开的制造方法中，由于使用紫外线固化型粘结剂、热固化型粘结剂作为粘结剂而形成高折射率层后，通过紫外线或者热进行固化，因此也存在得到的红外遮蔽膜形成柔软性不足的涂膜物性这样的问题。

本发明，是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于，提供耐久性及膜柔软性优异、可见光透过率高、近红外遮蔽性优异的近红外遮蔽膜及其制造方法、及设有该近红外遮蔽膜的近红外遮蔽体。

用于解决课题的手段

本发明的上述目的，通过以下的构成来实现。

(1)一种近红外遮蔽膜，其为在基材上具有将含有第1水溶性高分子及第1金属氧化物粒子的高折射率层以及含有第2水溶性高分子及第2金属氧化物粒子的低折射率层进行交替层叠而形成了的光学干涉膜的红外遮蔽膜，其中，上述第1金属氧化物粒子为用含硅的水合氧化物被覆了氧化钛粒子的粒子。

(2)如上述(1)所述的近红外遮蔽膜，其中，上述第1金属氧化物粒子的上述含硅的水合氧化物的被覆量，相对于上述氧化钛粒子，以SiO₂计为3～30质量%。

(3)如上述(1)或(2)所述的近红外遮蔽膜，其中，上述第1金属氧化物粒子的一次平均粒径为2～31nm。

(4)如上述(1)～(3)的任一项所述的近红外遮蔽膜，其中，上述第1水溶性高分子及第2水溶性高分子为聚乙烯醇。

(5)如上述(1)～(4)的任一项所述的近红外遮蔽膜，其中，上述高折射率层或所述低折射率层的至少1层含有硼酸及其盐以及硼砂中的至少一者。

(6)如上述(1)～(5)的任一项所述的近红外遮蔽膜，其中，上述第1金属氧化物粒子含有金红石型的氧化钛粒子。

(7)如上述(1)～(6)中任一项所述的近红外遮蔽膜，其中，上述高折射率层和上述低折射率层的折射率差为0.3以上。

(8)一种近红外遮蔽体，其为在基体的至少一面设置上述(1)～(7)中任一项所述的近红外遮蔽膜而成。

具体实施方式

以下，对用于实施本发明的方式详细地进行说明。