[发明专利]用于在低表面能基底上制造浮雕图案的环氧制剂和方法

权利要求书

1.一种用于在低表面能聚合物基底上制备负性色调永久性光致抗蚀剂浮雕图案的永久性环氧光致抗蚀剂组合物，其包含：

（A）一种或更多种环氧树脂；

（B）一种或更多种阳离子光引发剂；

（C）一种或更多种铸膜溶剂；和

（D）一种或更多种含氟化合物。

2.根据权利要求1所述的组合物，其还包含一种或更多种的以下添加材料：

（E）一种或更多种表面活性剂；

（F）一种或更多种任选的环氧树脂；

（G）一种或更多种反应性单体；

（H）一种或更多种光敏剂；

（I）一种或更多种助粘剂；以及

（J）一种或更多种包含染料和颜料的光吸收化合物。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述环氧树脂（A）包括一种或更多种根据式I至式VI的环氧树脂：

其中式I中的每个基团R独立地选自缩水甘油基或氢，并且式I中的k为0至约30的实数；

其中式II中的每个R₁、R₂和R₃独立地选自氢或具有1至4个碳原子的烷基，并且式II中p的值为1至约30的实数；

其中式III中的每个R₄和R₅独立地选自氢、具有1至4个碳原子的烷基、或三氟甲基，并且式III中n和m的值独立地为1至约30的实数；

其中式IV中的x为1至约30的实数；

其中式V中的R₁表示具有z个活性氢原子的有机化合物的残基，n₁至n_z各自表示0或1至100的整数，n₁至n_z所表示整数的总和为1至100，z表示1至100的整数并且E分别表示基团E₁或E₂；以及

其中式VI中的每个基团R独立地选自缩水甘油基或氢，并且式VI中的x为0至约30的实数。

4.根据权利要求1所述的组合物，其还包含一种或更多种附加材料，包括但不限于热产酸化合物、流动控制剂、热塑性和热固性的有机或有机金属聚合物和树脂、无机填充材料以及自由基光引发剂。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述环氧树脂（A）中的一种或更多种是双酚A酚醛环氧树脂。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中溶剂组分（C）是选自乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮和碳酸二甲酯的溶剂之一或其混合物。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中所述含氟化合物（D）是一种或更多种选自包含以下的化合物：2,3-二氢全氟戊烷、Novec7200和Novec7300。

8.一种在低表面能聚合物基底上形成永久性光致抗蚀剂浮雕图案的方法，其包括以下步骤：（1）通过将低表面能聚合物溶液涂覆在基底上在所述基底上设置低表面能聚合物层；（2）在所述低表面能聚合物基底上形成根据本发明的光致抗蚀剂组合物中的任意一种的层；（3）通过加热所涂覆基底使大部分所述溶剂从所述光致抗蚀剂层中蒸发以在所述基底上形成所述光致抗蚀剂组合物的膜；（4）经由掩模用活性射线照射所述光致抗蚀剂膜；（5）通过加热使所照射的光致抗蚀剂膜交联；（6）用溶剂使所述掩模图像在所述光致抗蚀剂膜中显影以在所述光致抗蚀剂膜中形成所述掩模的负性色调浮雕图像；以及（7）加热处理所述光致抗蚀剂浮雕结构以进一步固化所述光致抗蚀剂和低表面能聚合物层。

9.根据权利要求4所述的方法，其中使用狭缝涂覆法将根据本发明的组合物的层施用于基底。

10.根据权利要求4所述的方法，其中使用压电式喷墨印刷装置将根据本发明的组合物的图案化层施用于基底。

11.根据权利要求4所述的方法，其中将根据本发明的组合物的层施用于低表面能基底。

12.根据权利要求4所述的方法，其中所述活性射线由波长为约200纳米至约450纳米的紫外线组成。

13.一种通过根据权利要求8所述的方法制备的永久性光致抗蚀剂浮雕图案，其用于显示装置。