[发明专利]二氧杂蒽嵌蒽化合物、层压结构及其形成方法、以及电子器件及其制造方法无效
| 申请号: | 201280049303.1 | 申请日: | 2012-10-04 |
| 公开(公告)号: | CN103874704A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
| 发明(设计)人: | 小林典仁;五十岚绘里;胜原真央 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | C07D495/22 | 分类号: | C07D495/22;C07D495/16;H01L29/786;H01L31/10;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/42 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;梁韬 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 二氧 杂蒽嵌蒽 化合物 层压 结构 及其 形成 方法 以及 电子器件 制造 | ||
1.一种用选自由以下结构式(1)至结构式(9)构成的组中的任何一个结构式表示的二氧杂蒽嵌蒽化合物,
其中,X表示选自由氧、硫、硒和碲构成的组中的一种原子,
其中,Y表示选自由氧、硫、硒和碲构成的组中的一种原子,并且
其中,R、A1和A2各自表示氢原子或选自由烷基、环烷基、链烯基、炔基、芳基、芳基烷基、芳族杂环、杂环基、烷氧基、环烷氧基、芳氧基、烷硫基、环烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨磺酰基、酰基、酰氧基、酰胺基、氨基甲酰基、脲基、亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨基、卤原子、氟代烃基、氰基、硝基、羟基、巯基以及甲硅烷基构成的组中的取代基。
2.根据权利要求1所述的二氧杂蒽嵌蒽化合物,其中,R、A1和A2各自表示氢原子或选自由烷基、链烯基、芳基、芳基烷基、芳族杂环以及卤原子构成的组中的取代基。
3.根据权利要求1所述的二氧杂蒽嵌蒽化合物,其中,X表示氧。
4.根据权利要求1所述的二氧杂蒽嵌蒽化合物,其中,Y表示硫。
5.一种电子器件,至少包括:
第一电极;
第二电极,设置为与所述第一电极分离;以及
由有机半导体材料形成的有源层,从所述第一电极至所述第二电极设置,
其中,所述有机半导体材料由根据权利要求1至4中任一项所述的二氧杂蒽嵌蒽化合物形成。
6.一种用以下结构式(11)表示的二氧杂蒽嵌蒽化合物,
其中,R表示具有四个或更多碳原子的支链的烷基。
7.一种电子器件,至少包括:
第一电极;
第二电极,设置为与所述第一电极分离;以及
由有机半导体材料形成的有源层,从所述第一电极至所述第二电极设置,
其中,所述有机半导体材料包括用以下结构式(11)表示的二氧杂蒽嵌蒽化合物,并且
其中,R表示具有包括四个或更多碳原子的支链的烷基。
8.一种用以下结构式(21-1)、结构式(21-2)、或结构式(21-3)表示的二氧杂蒽嵌蒽化合物,
其中,取代基A用以下结构式(22-1)或结构式(22-2)表示,并且
其中,X1、X2、X3、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7、和Y8各自表示氢原子或选自由烷基、环烷基、链烯基、炔基、芳基、芳基烷基、芳族杂环、杂环基、烷氧基、环烷氧基、芳氧基、烷硫基、环烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨磺酰基、酰基、酰氧基、酰胺基、氨基甲酰基、脲基、亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨基、卤原子、氟代烃基、氰基、硝基、羟基、巯基以及甲硅烷基构成的组中的取代基,
9.一种用以下结构式(23-1)或结构式(23-2)表示的二氧杂蒽嵌蒽化合物:
10.一种电子器件,至少包括:
第一电极;
第二电极,设置为与所述第一电极分离;以及
由有机半导体材料形成的有源层,从所述第一电极至所述第二电极设置,
其中,所述有机半导体材料包括根据权利要求8或9所述的二氧杂蒽嵌蒽化合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280049303.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:柔性直流换流站阀厅与直流场合建结构
- 下一篇:一种新型伸缩杆挂烫机





