[发明专利]具有光遮蔽结构的电容性触摸传感器无效

专利信息
申请号: 201280047101.3 申请日: 2012-08-20
公开(公告)号: CN103827797A 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 约恩·比塔;莱昂纳德·尤金·芬内尔;威廉·J·卡明斯 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 孙宝成
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有光 遮蔽 结构 电容 触摸 传感器
【权利要求书】:

1.一种装置,其包括:

多个不透明列电极;

多个行电极,所述行电极中的每一者与所述列电极中的每一者电隔离,所述多个行电极中的至少一者包含:

第一部分,其中所述至少一个行电极的所述第一部分与所述列电极中的至少一者不共面;及

第二部分,其中所述至少一个行电极的所述第二部分不透明且与所述第一部分不共面;及

至少一个光遮蔽结构,其中所述至少一个光遮蔽结构上覆于所述至少一个行电极的所述第一部分的至少一部分上。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构与所述至少一个行电极的所述第一部分共面。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述多个行电极与所述多个列电极彼此大体垂直延伸。

4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构大体平行于所述至少一个行电极延伸。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构与所述多个行电极电隔离。

6.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构与所述多个列电极电隔离。

7.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构与所述多个行电极及所述多个列电极两者电隔离。

8.根据权利要求1到7中任一权利要求所述的装置,其进一步包括处理器,所述处理器经配置以将一个或一个以上电压施加到一组行电极且测量一组列电极处的一个或一个以上电压。

9.根据权利要求8所述的装置,其中所述处理器进一步经配置以基于所述所测量的一个或一个以上电压而确定一个或一个以上触摸位置。

10.根据权利要求1到9中任一权利要求所述的装置,其中所述第一部分为透明的。

11.根据权利要求1到10中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构包含反射层、吸收器层及位于所述反射层与所述吸收器层之间的间隔件层。

12.根据权利要求11所述的装置,其中所述间隔件层包含导电材料。

13.根据权利要求11所述的装置,其中所述间隔件层包含电介质材料。

14.根据权利要求1到13中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个列电极在相交点处上覆于所述至少一个行电极的所述第一部分上。

15.根据权利要求14所述的装置,其另外包含在所述相交点处安置于所述至少一个列电极与所述至少一个行电极的所述第一部分之间的绝缘层。

16.根据权利要求1到15中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个行电极的所述第二部分与所述多个列电极中的至少一者不共面。

17.根据权利要求1到16中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个行电极另外包含在所述至少一个行电极的所述第一部分与所述至少一个电极的所述第二部分之间延伸的连接器部分。

18.根据权利要求17所述的装置,其中所述连接器部分以一角度延伸到所述至少一个电极的所述第一部分及所述第二部分两者。

19.根据权利要求1到18中任一权利要求所述的装置,其中所述至少一个行电极的所述第一部分的经暴露部分整体上小于所述至少一个行电极的所述第一部分的25%。

20.根据权利要求19所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构上覆于所述第一部分上以便防止所述至少一个行电极的所述第一部分的至少一部分可见。

21.根据权利要求19所述的装置,其中所述至少一个光遮蔽结构上覆于所述至少一个行电极的所述第一部分上以便防止所述至少一个行电极的所述第一部分干扰观看由所述多个行电极及多个列电极后面的显示器显示的图像。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通MEMS科技公司,未经高通MEMS科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280047101.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top