[发明专利]监视超级电容器的安全工作的方法

权利要求书

1.一种容纳电极和电解质的电化学双层电容器的容器，所述容器包括：

具有腔的壳体；

耦合至所述壳体以与所述腔一起形成流体密封储液器的罩部；纳入到所述壳体或所述罩部中的一个或多个之中的多个端子，所述多个端子适于电耦合至所述电极；以及

纳入到所述壳体或所述罩部中的一个之中的压力顺应膜。

2.如权利要求1所述的容器，其特征在于，所述压力顺应膜包括被耦合至保持环的弹性档片。

3.如权利要求1所述的容器，其特征在于，所述压力顺应膜是所述壳体或所述罩部中的一个的局部变薄部分。

4.如权利要求1所述的容器，其特征在于，还包括被纳入到所述壳体或所述罩部中的一个之中并与所述流体密封储液器流体连通的减压阀。

5.如权利要求4所述的容器，其特征在于，所述减压阀包括破裂盘。

6.如权利要求4所述的容器，其特征在于，所述减压阀包括单向阀。

7.一种用于电化学双层电容器的压力监视系统，包括：

具有流体密封储液器的容器；

纳入到所述容器中的压力顺应膜，所述压力顺应膜响应于所述流体密封储液器内的流体压力而挠曲；以及

位移测量设备，所述位移测量设备适于测量所述压力顺应膜的挠曲。

8.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，还包括纳入所述流体密封储液器内的双层电容器单元。

9.如权利要求8所述的压力监视系统，其特征在于，所述压力顺应膜与围绕所述双层电容器单元的液体电解质流体连通。

10.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，所述压力顺应膜包括被耦合至保持环的弹性档片。

11.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，所述压力顺应膜是所述容器的局部变薄部分。

12.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，所述位移测量设备包括光学测量系统。

13.如权利要求12所述的压力监视系统，其特征在于，所述光学测量系统包括激光器。

14.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，所述位移测量设备包括作为液体被引入到所述容器中并凝固的可浇铸介质，其记录所述压力顺应膜的挠曲。

15.如权利要求7所述的压力监视系统，其特征在于，所述位移测量设备包括适于产生用于指示所述压力顺应膜与接触感测探头相接触的位移距离信号的接触监视系统。

16.如权利要求8所述的压力监视系统，其特征在于，还包括电耦合至所述位移测量设备的电子控制单元，所述电子控制单元包括处理器和存储计算机可读和可执行指令集的存储器。

17.如权利要求16所述的压力监视系统，其特征在于，还包括电耦合至所述电子控制单元和所述电化学双层电容器的充电管理系统，其中，所述电子控制单元从所述位移测量设备接收位移距离信号并且所述处理器执行所述指令集以使所述电子控制单元将充电控制信号发送至所述充电管理系统以停止将充电电压提供给所述电化学双层电容器。

18.一种管理电化学双层电容器容器内的压力的方法，包括：

监视所述电化学双层电容器的容器内与流体密封储液器流体连通的压力顺应膜的挠曲；

将所述压力顺应膜的挠曲与所述容器的基线部分进行比较。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述压力顺应膜的挠曲是由光学测量系统测得的。

20.如权利要求18所述管理压力的方法，其特征在于，还包括：

将可浇铸介质引入到所述压力顺应膜和所述容器的基线部分；以及

使所述可浇铸介质凝固。

21.如权利要求18所述管理压力的方法，其特征在于，所述压力顺应膜的挠曲是由接触监视系统测得的，所述接触监视系统在所述压力顺应膜与接触感测探头相接触时产生位移距离信号。

22.如权利要求18所述管理压力的方法，其特征在于，还包括向充电管理系统发布一信号以停止对所述电化学双层电容器的充电管理。

23.如权利要求18所述管理压力的方法，其特征在于，还包括向充电管理系统发布一信号以对所述电化学双层电容器放电。