[发明专利]用于使玻璃类材料构成的扁平基材结构化的方法和光学组件

权利要求书

1.用于在粘稠流动工艺过程中使由玻璃类材料构成的扁平基材结构化的方法，其中所述玻璃类扁平基材与扁平基材的表面接合，所述扁平基材具有由位于表面中的周边边缘限界的至少一个凹陷，并且在随后的退火工艺过程中，所述玻璃类扁平基材变为粘稠的自由流动状态，其中扁平基材的至少部分自由流动的玻璃类材料流过周边边缘，进入半导体扁平基材的凹陷中，

其特征在于设置扁平基材，其至少一个凹陷具有至少一个润湿表面，该润湿表面相对于扁平基材的表面下陷，并至少部分地由线型边缘限界，同时，该线型边缘是设置在凹陷中并且相对于润湿表面下陷的沟结构的边缘，和/或由可属于润湿表面的自由流动的玻璃类材料的润湿性质的不连续变化确定，

其特征在于在退火工艺过程中，使自由流动的玻璃类材料与润湿表面接触，其方式为沿线型边缘形成润湿前锋，并且

其特征在于随着在润湿前锋和周边边缘之间延伸而不与扁平基材接触的玻璃类材料的表面的形成终止退火工艺，所述玻璃类材料的表面与所述凹陷的子区域封闭成空腔。

2.权利要求1的方法，其特征在于，通过表面改性选择润湿表面的润湿性质，其方式为在用自由流动的玻璃类材料使润湿表面润湿的过程中，形成比在未表面改性的表面上铺展更快的动态铺展的润湿前锋。

3.权利要求1或2的方法，其特征在于，通过阳极结合或直接结合(熔融结合)进行玻璃类扁平基材与扁平基材的表面的接合。

4.权利要求1-3任一项的方法，其特征在于，所述玻璃类扁平基材以不透气的方式封闭至少一个凹陷，由此形成封闭空腔，并且其特征在于，在气体气氛存在下，在可预设的工艺压力下进行玻璃类扁平基材的接合，使得直接在接合后，在形成的空腔中封闭部分气体气氛。

5.权利要求4的方法，其特征在于，在退火过程中，通过受控制地改变工艺压力，影响在润湿前锋和周边边缘之间延伸而不与扁平基材接触的玻璃类材料的表面的形状。

6.权利要求5的方法，其特征在于，通过降低工艺压力使得在润湿前锋和周边边缘之间延伸而不与扁平基材接触的玻璃类材料的表面变形为下凹的，而在提高工艺压力时使所述玻璃类材料的表面变形为上凸的。

7.权利要求4的方法，其特征在于，中断退火工艺至少一次，产生至至少一个空腔的开放通路，并且退火工艺继续进行。

8.权利要求7的方法，其特征在于，再中断退火工艺至少一次，封闭至少一个开放通路，并且退火工艺继续进行。

9.权利要求1-8任一项的方法，其特征在于，在完成退火工艺之后，将玻璃类扁平基材与扁平基材分离，从而保持其形状以得到玻璃类扁平基材的结构化表面，并且

其特征在于，将玻璃类扁平基材的结构化表面用作复制模具。

10.权利要求1-8任一项的方法，其特征在于，在完成退火工艺之后，将玻璃类扁平基材完全地或在子区域中与扁平基材分离，从而保持其形状以得到玻璃类扁平基材的结构化表面，并且

其特征在于，至少使用在润湿前锋和周边边缘之间或初始在润湿前锋和周边边缘之间延伸而不接触扁平基材的玻璃类材料的表面作为光学元件的光学有效表面。

11.权利要求1-10任一项的方法，其特征在于所述扁平基材由熔化温度高于玻璃类扁平基材的熔化温度的材料构成。

12.权利要求1-11任一项的方法，其特征在于，将半导体基材或陶瓷基材用作扁平基材。

13.光学部件，其包括光学有效表面，所述光学有效表面是由玻璃类材料构成的结构化扁平基材的一部分，可属于所述光学有效表面的光轴与可属于扁平基材的扁平基材平面包围成不等于0°或90°的角度α，其中光学有效表面的表面平滑度相当于未接触地由玻璃类材料制成的表面的表面平滑度。

14.权利要求13的光学部件，其特征在于，使用权利要求1-8任一项的方法间接或直接地制造所述光学有效表面，所述光学有效表面是由玻璃类材料构成的结构化扁平基材的一部分，其中光学有效表面相当于在润湿前锋和周边边缘之间延伸而不与半导体基材接触的玻璃类材料的表面，或对应于其复制模具。

15.权利要求13或14的光学组件，其特征在于由玻璃类材料构成的结构化扁平基材包括结构化表面和与所述结构化表面相对的平坦表面，该平坦表面与扁平基材平面一致，其特征在于在平坦表面上间接或直接地设置光源，所述光源将光通过平坦表面射入由玻璃类材料构成的结构化扁平基材中，其方式为所述光在由玻璃类材料构成的扁平基材中的光学有效表面上是可偏转的。