[发明专利]在激光处理系统中的颗粒控制

权利要求书

1.一种用于在激光处理系统中减少污染物的设备，所述设备包含：

基板支撑件外壳；

主体，所述主体耦接至所述基板支撑件外壳的外表面，所述主体界定腔体并且具有：

圆锥状部分，所述圆锥状部分具有：第一端，所述第一端具有第一直径；及第二端，所述第二端具有第二直径，所述第二直径小于所述第一直径，所述圆锥状部分在所述第一端与所述第二端之间具有锥形内侧壁；及

圆筒状部分，所述圆筒状部分接合至所述圆锥状部分的所述第二端；

第一气体入口端口，所述第一气体入口端口圆周地围绕所述圆锥状部分的所述第一端而形成，所述第一气体入口端口形成在所述圆锥状部分的所述锥形内侧壁中；

第二气体入口端口，所述第二气体入口端口圆周地围绕所述主体的所述圆筒状部分而形成；及

透明的窗口，所述透明的窗口设置在所述圆锥状部分的所述第一端处。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一气体入口端口与所述腔体流体连通。

3.如权利要求2所述的设备，进一步包含：第一气体通道，所述第一气体通道与所述第一气体入口端口流体连通。

4.如权利要求3所述的设备，进一步包含：气体出口端口，所述气体出口端口与所述腔体流体连通。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述气体出口端口被布置在所述第一气体入口端口和所述第二气体入口端口之间。

6.如权利要求1所述的设备，进一步包含：凸缘，所述凸缘被设置在所述圆筒状部分的外部表面上。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述凸缘包含设置为穿过所述凸缘的开口以容纳紧固件。

8.如权利要求1所述的设备，其中所述透明的窗口包含：石英、熔融硅石、或蓝宝石。

9.如权利要求1所述的设备，其中所述主体包含：不锈钢或铝。

10.如权利要求1所述的设备，其中所述透明的窗口包含于所述透明的窗口上的涂料，且其中所述涂料对具有第一波长的辐射为抗反射的，且所述涂料对具有第二波长的辐射为反射的。

11.如权利要求10所述的设备，其中所述第一波长在大约200纳米至大约1100纳米的范围内，且所述第二波长在大约800纳米至大约2.2微米的范围内。

12.如权利要求11所述的设备，其中所述主体包含穿过所述主体的壁的开口，以容纳高温测量视野。

13.如权利要求12所述的设备，其中：

所述主体的内部表面包含于所述内部表面上的涂料，所述涂料从由金、银及铝构成的群组中选出。

14.一种用于在激光处理系统中减少污染物的设备，所述设备包含：

基板支撑件外壳；及

主体，所述主体耦接至所述基板支撑件外壳的上外表面，所述主体界定腔体并且具有：

圆锥状部分，所述圆锥状部分具有：第一端，所述第一端具有第一直径；及第二端，所述第二端具有第二直径，所述第二直径小于所述第一直径，所述圆锥状部分在所述第一端与所述第二端之间具有锥形内侧壁；及

圆筒状部分，所述圆筒状部分接合至所述圆锥状部分的所述第二端；

第一气体入口端口，所述第一气体入口端口圆周地围绕所述圆锥状部分的所述第一端而形成且与所述腔体流体连通，所述第一气体入口端口形成在所述圆锥状部分的所述锥形内侧壁中；

第二气体入口端口，所述第二气体入口端口圆周地围绕所述主体的所述圆筒状部分而形成且与所述腔体流体连通；及

透明的窗口，所述透明的窗口被设置在所述圆锥状部分的所述第一端处而与所述第一气体入口端口相邻，所述透明的窗口具有于所述透明的窗口上的涂料，所述涂料对具有第一波长的辐射为抗反射的，且所述涂料对具有第二波长的辐射为反射的。

15.如权利要求14所述的设备，其中：

所述第一波长在大约200纳米至大约1100纳米的范围内；

所述第二波长在大约800纳米至大约2.2微米的范围内；

所述主体的内部表面包含所述内部表面上的涂料，所述涂料从由金、银及铝构成的群组中选出；

所述主体包含穿过所述主体的壁的开口，以容纳高温测量视野；

所述主体包含：不锈钢或铝；及

所述窗口包含：石英、熔融硅石、或蓝宝石。