[发明专利]含有PDE5抑制剂的减少皮肤皱纹的组合物

权利要求书

1.一种磷酸二酯酶（PDE5）抑制剂在制备用于减少皮肤皱纹的组合物中的用途。

2.如权利要求1所述的用途，其中所述的PDE5抑制剂是由以下化学式1代表的化合物及其药学上可接受的盐、溶剂合物或水合物。

化学式1

其中，

R¹是H；被一个或多个氟原子或C₃-C₆环烷基任意取代的C₁-C₃烷基；

R²是H；卤素原子；被OH、C₁-C₃烷氧基、C₃-C₆环烷基或一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₆烷基；C₃-C₆环烷基；C₂-C₆烯基；或C₂-C₆炔基；

R³是H；被OH、C₁-C₃烷氧基、C₃-C₆环烷基或一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₆烷基；C₃-C₆环烷基；C₂-C₆烯基；或C₂-C₆炔基；

R⁴是被C₃-C₆环烷基或一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₆烷基;C₂-C₆烯基;C₂-C₆炔基;或C₃-C₆环烷基；

R⁵是SO₂NR⁶R⁷;NHSO₂NR⁶R⁷;NHCOCONR⁶R⁷;NHSO₂R⁸;NHCOR⁸；或被一个或多个氟原子或C₁-C₃烷基任意取代的杂环基或苯基;

R⁶和R⁷各自分别是H或被OH、CO₂H、C₁-C₃烷氧基、C₃-C₆环烷基或一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₆烷基；或与带有的氮原子一起形成，例如，咪唑、氮杂环丙烷、氮杂环丁烷、吡咯烷基、哌啶、吗啉、哌嗪和高哌嗪这样的单环或，例如，2,5-二氮杂双环[2.2.1]庚烷和3,7-二氮杂双环[3.3.0]辛烷这样的双环的基团，其中所述基团被R⁹任意取代；

R⁸是被一个或多个氟原子或C₃-C₇环烷基任意取代的C₁-C₃烷基；

R⁹是被一个或多个卤素原子、OH、被一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₃烷氧基、CO₂R¹⁰、NR¹¹R¹²、C=NR¹³(NR¹⁴R¹⁵)或被C₁-C₃烷基任意取代的四唑基团任意取代的C₁-C₆烷基；或一个或多个含有被一个或多个氟原子任意取代的杂芳基的氮原子；

R¹⁰是H；或被OH、NR¹¹R¹²、一个或多个氟原子或含有杂环基，例如吡咯烷、哌啶、哌嗪、吗啉、吡咯和咪唑的氮原子任意取代的C₁-C₄烷基，其中氮原子直接连接到C₁-C₄烷基；

R¹¹和R¹²各自分别是H或C₁-C₄烷基；

R¹³是H；被一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₄烷基；或C₁-C₆环烷基；

R¹⁴和R¹⁵各自分别是H或被一个或多个氟原子任意取代的C₁-C₄烷基；C₃-C₆环烷基；或与带有的氮原子一起形成吡咯烷基、哌啶、吗啉、哌嗪或高哌嗪的基团，其中所述基团被C₁-C₃烷基任意取代。