[发明专利]一体型触控传感器基板、具有它的显示装置、以及一体型触控传感器基板的制造方法无效
申请号: | 201280042416.9 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103782257A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 木本真依;松政健司 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 体型 传感器 具有 显示装置 以及 制造 方法 | ||
1.一种一体型触控传感器基板,其为前面板和触控面板传感器的一体型触控传感器基板,其特征在于,具有:
透明的前面板;
边框层,其形成在前述前面板的反面的周边部,划分既定形状的显示区域;
标志去除部,其将前述边框层的既定位置以既定形状去除而形成;
金属配线,其形成在前述边框层的反面侧;
金属膜层,其形成在前述标志去除部的反面侧;
传感器层,其形成在前述显示区域,与前述金属配线连接,
前述金属配线和前述金属膜层以相同金属形成。
2.如权利要求1所述的一体型触控传感器基板,其特征在于,前述金属配线的一部分,通过以狭缝分离前述金属膜层的一部分来形成。
3.如权利要求2所述的一体型触控传感器基板,其特征在于,前述狭缝的间隔为25μm以下。
4.如权利要求2或3所述的一体型触控传感器基板,其特征在于,在前述金属膜层的反面形成覆盖前述狭缝的不透明层。
5.如权利要求1~4中任一项所述的一体型触控传感器基板,其特征在于,前述金属膜层的反射率为30%以上。
6.一种显示装置,其特征在于,具有:
显示面板,其具有将多个像素设置排列成矩阵状的像素区域,基于输入信号将影像显示在前述像素区域;
如权利要求1~5中任一项所述的一体型触控传感器基板,其以覆盖前述像素区域的方式安装。
7.一种一体型触控传感器基板的制造方法,其为前面板和触控面板传感器的一体型触控传感器基板的制造方法,该一体型触控传感器基板具有:
透明的前面板;
边框层,其形成在前述前面板的反面的周边部,划分既定形状的显示区域;
标志去除部,其将前述边框层的既定位置以既定形状去除而形成;
金属配线,其形成在前述边框层的反面侧;
金属膜层,其形成在前述标志去除部的反面侧;
传感器层,其形成在前述显示区域,与前述金属配线连接,
该制造方法具有:
在前述前面板的反面形成具有前述标志去除部的前述边框层的步骤;
形成前述金属配线的步骤;
形成前述金属膜层的步骤;和
形成前述传感器层的步骤,
该制造方法的特征在于使用相同金属材料、以相同步骤进行前述形成金属配线的步骤及前述形成金属膜层的步骤。
8.如权利要求7所述的一体型触控传感器基板的制造方法,其特征在于,在前述形成金属膜层的步骤中,通过在前述金属膜层设置狭缝并加以分离,来将该金属膜层的至少一部分作为前述金属配线的一部分而形成。
9.如权利要求8所述的一体型触控传感器基板的制造方法,其特征在于,在前述形成金属膜层的步骤中,将前述狭缝的间隔做成25μm以下。
10.如权利要求8或9所述的一体型触控传感器基板的制造方法,其特征在于,在前述形成金属膜层的步骤后,进一步包含形成覆盖前述金属膜层的前述狭缝的不透明层的步骤。
11.如权利要求7~10中任一项所述的一体型触控传感器基板的制造方法,其特征在于,在前述形成金属膜层的步骤中,作为前述金属膜层的材料,使用反射率为30%以上的材料。
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