[发明专利]在可变形图像配准工作流中用户输入和变形矢量场的校正的集成

权利要求书

1.一种方法，包括：

计算相对地在空间上配准第一图像（16）和第二图像（14）的变形矢量场（DVF）（22）；

使用所述DVF调节描绘所述第一图像（16）中的结构的轮廓（26），以便在所述第二图像（14）中生成所述结构的初始轮廓（52）；

接收所述第二图像中的所述结构的最终轮廓（56）；并且

以所述第二图像中的所述结构的所述初始轮廓和所述最终轮廓为基础来校正所述DVF，以便生成校正的DVF（32）；

其中，所述计算、调节和校正由电子处理设备（42）执行。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述校正包括：

计算与所述第二图像（14）中的所述结构的所述初始轮廓和所述最终轮廓（52、56）相关的调整变形矢量场（调整DVF）（62）；并且

将所述DVF（22）与所述调整DVF进行组合以便生成校正的DVF（32）。

3.如权利要求2所述的方法，其中，所述组合包括下列步骤之一：

将所述调整DVF（62）加和到所述DVF（22）以便生成所述校正的DVF（32），以及

从所述DVF（22）减去所述调整DVF（62）以便生成所述校正的DVF（32）。

4.如权利要求1-3中的任意一项所述的方法，其中，所述接收包括：

显示所述第二图像（14）以及包括所述第二图像中的所述结构的所述初始轮廓（52）的叠置的轮廓（C_i1、C_i2、C_i3）；并且

接收所述叠置的轮廓的一个或多个用户调整，对每一个接收到的用户调整做出响应，更新所述叠置的轮廓的显示；

其中，所述第二图像中的所述结构的所述最终轮廓（56）包括含有接收到的一个或多个用户调整的所述初始轮廓（C_F1、C_F2、C_F3）。

5.如权利要求1-4中的任意一项所述的方法，其中，所述第一图像是用于生成放射治疗计划的计划图像（16），并且所述第二图像是用于更新所述放射治疗计划的处理图像（14），并且所述方法进一步包括：

更新所述放射治疗计划的一个或多个参数以便考虑在所述计划图像的获取和所述处理图像的获取之间发生的改变，所述更新至少以所述校正的DVF（32）为基础。

6.如权利要求5所述的方法，其中，所述放射治疗计划的一个或多个参数的更新包括更新下面列出的项目中的至少一个：（1）衰减图、（2）剂量偏离以及（3）剂量累积。

7.如权利要求5-6中的任意一项所述的方法，进一步包括：

使用所述一个或多个更新的参数来执行放射治疗疗程。

8.一种存储由电子处理设备可执行的指令以便执行如在权利要求1-6中的任意一项中阐述的方法的非暂态存储介质。

9.一种配置为执行如在权利要求1-6中的任意一项中阐述的方法的电子处理设备（42）。

10.一种存储由电子处理设备（42）可执行的指令以便执行一种方法的非暂态存储介质，所述方法包括：

调整第二图像（14）的轮廓；并且

以所述轮廓的调整为基础来更新在所述第二图像和第一图像（16）之间进行映射的变形矢量场（DVF）（22），以便生成在所述第二图像和所述第一图像之间进行映射的更新的DVF（32）。

11.如权利要求10所述的非暂态存储介质，其中，所述方法进一步包括：

在所述调整之前，通过将所述DVF（22）应用于所述第一图像（16）的轮廓来生成所述第二图像（14）的所述轮廓。

12.如权利要求10-11中的任意一项所述的非暂态存储介质，其中，所述调整包括：

显示所述第二图像（14）以及叠置在所显示的第二图像上的所述第二图像的轮廓（C_i1、C_i2、C_i3）；并且

接收并且显示所显示的叠置的轮廓的用户调整。