[发明专利]用于平版印刷应用的来自小分子的金属氧化物膜

权利要求书

1.一种硬掩模组合物，其包括分散或溶解于溶剂系统中的金属氧化物前体化合物，所述前体化合物选自下组：聚合物、低聚物、单体及其混合物，其中：

所述聚合物和低聚物包括下述重复出现的单体单元：

所述单体具有下述分子式：

其中：

m至少是1；

各n独立的是1-3；

a是组成所有氧化物连接的原子数目；

x指单体重复单元；

M是除了硅以外的金属或准金属；

各R¹和R²独立的选自下组：氢、烷基、芳基、烷氧基、苯氧基和乙酰氧基；以及

各R³独立地选自下组：烷基和羰基，

所述组合物基本上不含硅。

2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，各（M）独立选自下组：铝、钛、锆、钒、锗、铝、铪、镓、铊、锑、铅、铋、铟、锡、硼、锗、砷、碲、和稀土金属。

3.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物基本上不含交联剂。

4.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物基本上不含添加的发色团或光减弱部分。

5.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物是聚合物或低聚物，以所述组合物的总重量为100重量％计，所述前体化合物以下述水平存在于该组合物中：约0.1%-约5重量%。

6.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物是单体，以所述组合物的总重量为100重量％计，所述前体化合物以下述水平存在于该组合物中：约0.3%-约5重量%。

7.一种硬掩模组合物，其包括分散或溶解于溶剂系统中的金属氧化物前体化合物，所述前体化合物选自下组：聚合物、低聚物、单体及其混合物，其中：

所述聚合物和低聚物包括下述重复出现的单体单元：

所述单体具有下述分子式：

其中：

各m至少是2；

各n独立的是1-3；

a是组成所有氧化物连接的原子数目；

x指单体重复单元；

M是除了硅以外的金属或准金属；

各R¹和R²独立的选自下组：氢、烷基、芳基、烷氧基、苯氧基和乙酰氧基；以及

各R³独立地选自下组：烷基和羰基，

所述组合物还包括硅，以及不溶于水性碱性显影剂。

8.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，各（M）独立选自下组：铝、钛、锆、钒、锗、铝、铪、镓、铊、锑、铅、铋、铟、锡、硼、锗、砷、碲、和稀土金属。

9.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物是聚合物或低聚物，以所述组合物的总重量为100重量％计，所述前体化合物以下述水平存在于该组合物中：约0.3%-约5重量%。

10.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物是单体，以所述组合物的总重量为100重量％计，所述前体化合物以下述水平存在于该组合物中：约0.3%-约5重量%。

11.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，以所述组合物的总重量为100重量％计，所述组合物包括约0.025%-约10重量%的硅。

12.如权利要求7所述的组合物，其特征在于，所述硅作为含硅单体重复单元存在，该重复单元具有下述分子式：

其中：

y指单体重复单元；

z是1-2；以及

各R⁴独立地选自下组：苯基、烷基、氢、烯基和炔基。

13.如权利要求12所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物是具有分子式（I）的聚合物或低聚物，所述含硅单体重复单元作为共聚单体存在于所述聚合物或低聚物中。

14.如权利要求13所述的组合物，其特征在于，所述前体化合物中x:y的比例是约10:1-约1:10。