[发明专利]液晶显示元件的制造方法、液晶取向剂以及液晶显示元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示元件的制造方法、液晶取向剂以及液晶显示元件。

背景技术

作为液晶显示元件，除了使用扭转向列(Twisted Nematic，TN)型、超扭转向列(Super Twisted Nematic，STN)型等所代表的具有正介电各向异性的向列型液晶的水平取向模式的液晶显示元件以外，已知使用具有负介电各向异性的向列型液晶的垂直(homeotropic)取向模式的垂直取向(Vertical Alignment，VA)型液晶显示元件。进而，还已知共面切换(In-Plane Switching，IPS)型或边缘场切换(Fringe Field Switching，FFS)型等仅于对向配置的一对基板中的其中一块上形成电极而在与基板平行的方向上产生电场的横向电场方式的液晶显示元件。

已知，横向电场方式的液晶显示元件与在两基板上形成电极而在与基板垂直的方向上产生电场的现有纵向电场方式的液晶显示元件相比，具有视角广的特性，另外，可进行高品质的显示。进而已知，横向电场方式的液晶显示元件的预倾角越低，则可获得越良好的视角特性及越高的对比度。因此，对横向电场方式的液晶显示元件期望无电场施加时的初始取向特性中的预倾角低。

所述液晶显示元件中，为了使液晶分子相对于基板面而在规定的方向上取向，在基板表面形成液晶取向膜。作为对液晶取向膜赋予取向性的方法，近年来，代替利用人造丝等布材料将形成于基板表面的有机膜表面在一个方向上擦拭的方法(摩擦法)，而提出通过对形成于基板表面的感放射线性有机薄膜照射偏光或者非偏光的放射线来赋予液晶取向能力的光取向法(参照专利文献1～专利文献5)。该光取向法不仅在步骤中抑制灰尘或静电产生，而且可形成均匀的液晶取向膜。进而，也可以通过在照射放射线时使用适当的光罩，而仅对有机薄膜上的任意区域赋予液晶取向能力，或者通过使用多次照射改变了照射方向或者偏光轴方向的放射线的方法或者将所述方法与使用光罩的方法并用，而于一片有机薄膜上形成液晶取向方向不同的多个区域。除此以外，利用光取向法来形成的液晶取向膜也可以通过使用自垂直方向对基板表面照射偏光放射线等方法，而在原理上将预倾角设为零，能够制造极高品质的显示元件。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本专利特开2003-307736号公报

专利文献2：日本专利特开2004-163646号公报

专利文献3：日本专利特开2002-250924号公报

专利文献4：日本专利特开2004-83810号公报

专利文献5：日本专利特开2010-217868号公报

发明内容

[发明所解决的课题]

由于如上所述的很多优点，而期望利用光取向法来制造横向电场方式的液晶显示元件。然而，使用所述光取向法的横向电场方式的液晶显示元件中，残像以及老化有时会成为问题，这些问题的改良很重要。尤其，由于所述取向状态的经时变化而引起的在画面上产生的亮度差被观察者辨认为老化而成为问题。另外，随着液晶显示元件可进行高亮度的显示，如上所述白天在户外使用液晶显示元件的情况增加，由此，液晶显示元件以及其所具备的液晶取向膜会长时间地暴露于现有的使用实施方式中所未考虑到的程度的强紫外线中。因此，近年来，液晶取向膜的耐紫外线性的提高成为重要问题。

横向电场方式的液晶显示元件由于无论视角如何均可进行高品质的显示的优异显示性能，而在医疗用显示器或大型显示器、进而便携式终端用小型显示器等用途中广泛使用。尤其是最近，随着平板型电脑或智能手机等新媒体的出现，当务之急是开发出不论视角如何均可进行更高品质的显示且量产性优异的显示元件。

根据如上所述的背景，期望提供一种液晶取向剂，其于横向电场方式的液晶显示元件中，不仅可利用光取向法而充分表现出如上所述的有利效果，而且显示出经改善的残像特性以及老化特性，且可形成即便通过大量的紫外线照射，电压保持率下降的问题也少的液晶取向膜。

本发明是鉴于所述情况而形成，课题在于提供一种液晶取向剂，其于特定方式的液晶显示元件中，液晶取向性优异，老化特性良好，且可抑制在长时间的连续驱动后，特别是长时间暴露于光中的情况下的电特性的劣化。课题尤其在于提供一种在IPS模式、FFS模式等横电解方式的液晶显示元件中可达成所述课题的液晶取向剂、使用该液晶取向剂而形成的液晶取向膜以及液晶显示元件。

[解决课题的技术手段]