[发明专利]具有高流量旁路的流体流液力分离器有效
| 申请号: | 201280040394.2 | 申请日: | 2012-08-16 |
| 公开(公告)号: | CN103857856A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
| 发明(设计)人: | W.G.施泰因 | 申请(专利权)人: | 约尔格-米夏埃尔·施泰因哈特 |
| 主分类号: | E03F5/14 | 分类号: | E03F5/14;B01D35/147 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 董均华;杨炯 |
| 地址: | 德国陶努*** | 国省代码: | 德国;DE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 流量 旁路 流体 流液力 分离器 | ||
1.一种用于从地表水的流动流分离废物材料的改进系统,所述系统包括竖直圆柱形容器和位于所述圆柱形容器的内壁之内并且与其间隔的竖直圆柱形结构,所述系统被定尺寸成适应规划的正常流体流量,并配置成使得包含进入所述容器的废物材料的流动流:
a. 流动到在所述圆柱形容器的内壁和位于其中的所述圆柱形结构之间的外围空间中,
b. 所述流动流穿过所述圆柱形结构的穿孔壁部分,并且
c. 通过位于被包围在所述圆柱形结构内的中央空间的下部部分处的流出物管而离开,
所述改进包括安装在所述圆柱形容器内并且在所述圆柱形结构的顶部部分上的溢流结构,所述溢流结构包括一个或多个向上延伸的过滤结构和一个或多个堰的组合,所述一个或多个向上延伸的过滤结构和一个或多个堰的组合被定尺寸成接收超出所述规划的正常流体流量的流量并从所述超出的流量过滤所述废物材料的至少一部分,并且被定尺寸成将这种超出的流量引导到所述流出物管,其中:
a. 在超出所述规划的正常流体流量的第一增加流动速率下,流量的所述增加的量穿过第一溢流过滤结构,
b. 在超出所述第一增加流动速率的第二增加流动速率下,流量的所述第二增加的量穿过第二溢流过滤结构,
c. 在超出所述第二增加流动速率的第三增加流动速率下,流量的所述第三增加的量跨过堰,并且
d. 在超出所述第三增加流动速率的第四增加流动速率下,流量的所述第四增加的量跨过第二堰,
以便超出进入所述改进系统的所述规划的正常流体流量的全部流体流量穿过所述溢流结构,并且通过流出物通道而离开所述改进系统。
2.根据权利要求1所述的改进系统,其中,所述一个或多个向上延伸的过滤结构包括过滤筛或间隔分开的棒的屏障。
3.根据权利要求2所述的改进系统,其中,所述一个或多个向上延伸的过滤结构包括两个过滤结构,第一过滤结构包括穿孔金属筛,并且第二过滤结构包括间隔分开的棒的开口屏障。
4.根据权利要求3所述的改进系统,其中,所述第一过滤结构包括竖直取向的圆柱形金属筛。
5.根据权利要求3所述的改进系统,其中,所述第二过滤结构包括以圆锥配置而布置的间隔分开的棒的开口屏障,所述圆锥配置的顶部直径大于所述圆锥配置的底部直径。
6.根据权利要求1所述的改进系统,其中,第一堰包括圆柱形屏障,所述圆柱形屏障安装到所述第二溢流过滤结构的顶部。
7.根据权利要求1所述的改进系统,其中,第二堰包括圆柱形屏障,所述圆柱形屏障在第一堰的顶部之上和之下延伸,第二堰具有比所述第一堰的直径更大的直径,以便在所述第二堰的外部和内部都存在流动通道,所述内部的流动通道在所述第一堰的外部。
8.一种用于从地表水的流动流分离废物材料的系统,所述系统包括竖直圆柱形容器和竖直结构,所述竖直结构包括位于所述圆柱形容器的内壁之内并且与其间隔的堆叠的过滤元件和堰,所述系统被定尺寸成适应规划的正常流体流量的情况以及由于异常高的地表水流量的增加的规划流体流量的情况,所述系统被配置成使得包含进入所述容器的废物材料的流动流:
a. 流动到在所述圆柱形容器的内壁和位于所述圆柱形容器内的所述竖直结构之间的外围空间中,
b. 所述流动流穿过所述竖直结构的过滤壁部分,并且
c. 通过位于被包围在所述圆柱形结构内部的中央空间的下部部分处的流出物管而离开,
所述系统包括圆柱形结构和溢流结构,所述圆柱形结构在被设计为适应规划的正常流量的圆柱形容器内,所述溢流结构安装在所述圆柱形容器内并且在所述圆柱形结构的顶部部分上,所述圆柱形结构包括至少一个竖直圆柱形过滤元件,并且所述溢流结构包括一个或多个向上延伸的过滤结构和一个或多个堰的组合,所述一个或多个向上延伸的过滤结构和一个或多个堰的组合被定尺寸成接收超出所述规划的正常流体流量的流量并从所述超出的流量过滤所述废物材料的至少一部分,并且被定尺寸成将这种超出的流量引导到所述流出物管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于约尔格-米夏埃尔·施泰因哈特,未经约尔格-米夏埃尔·施泰因哈特许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280040394.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





