[发明专利]等离子体改性的医疗设备和方法有效
申请号: | 201280039960.8 | 申请日: | 2012-07-25 |
公开(公告)号: | CN103748147A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 陈猛 | 申请(专利权)人: | 陈猛 |
主分类号: | C08J7/18 | 分类号: | C08J7/18 |
代理公司: | 北京市中银律师事务所 11423 | 代理人: | 修雪静 |
地址: | 美国密苏里州*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 改性 医疗 设备 方法 | ||
1.一种用以植入人体或动物宿主体内的医疗设备,包括至少有一个接触面以接触体液或组织,所述接触面由两步等离子体处理过程进行改性:1)利用含硅单体进行等离子体沉积形成薄的等离子体涂层,从而生成一层等离子体表面;2)所述等离子体表面随后使用含氮分子和氧分子的混合物进行改性。
2.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含硅单体包括一种在正常情况下为气态的硅烷基。
3.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含硅单体包括一种在低于100 °C的温度下可汽化的硅烷基。
4.根据权利要求1所述的医疗备,其特征在于:所述含硅单体包括三甲基硅烷(TMS)、乙烯基三氯硅烷 、四乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷 、六甲基二硅氮烷、四甲基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、四乙烯硅烷、三乙酰氧基乙烯基硅烷和甲基三甲氧基硅烷中的一种。
5.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含硅单体为(CH3)3-SiH或(CH3)2-SiH2。
6.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:每个所述含氮分子包括的原子数小于6个。
7.根据权利要求5所述的医疗设备,其特征在于:每个所述含氮分子包括4个或更少的原子。
8.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含氮分子包括NH3,N2O,NO,NO2和N2O4中的一种或几种。
9.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含氧分子包括O2和/或O3。
10.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含氮分子和含氧分子的等离子体表面改性是同时进行的。
11.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:与未用等离子体改性的类似接触面相比,等离子体改性的接触面表现出至少某些哺乳动物细胞的附着增强。
12.根据权利要求10所述的医疗设备,其特征在于:人体或动物宿主包含有内皮细胞。
13.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述医疗设备是支架,并且至少有一个接触面构成支架的内腔。
14.根据权利要求13所述的医疗设备,其特征在于:与未用等离子体改性的类似支架相比,等离子体改性的接触面在放入血管后表现出再狭窄减少。
15.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层厚度小于100nm。
16.根据权利要求15所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层厚度小于60nm。
17.根据权利要求15所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层厚度小于20nm。
18.根据权利要求15所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层厚度介于10到20nm之间。
19.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体表面改性时间少于10分钟。
20.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层沉积是含硅单体(CH3)3-SiH的等离子体沉积。
21.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述等离子体涂层涂是纳米级(小于100nm)的等离子体涂层,通过辉光放电等离子体沉积过程制作成。
22.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述含氮分子是NH3,所述含氧分子是O2。
23.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述接触面是金属表面或聚合物表面。
24.根据权利要求1所述的医疗设备,其特征在于:所述医疗设备为支架、导管、球囊、分流器、移植物、心脏的瓣、心脏起博器、脉冲发生器、心脏除颤器、脊髓刺激器、大脑刺激器、导向器、螺钉及传感器中的一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈猛,未经陈猛许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280039960.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种葡萄提取物的制备方法
- 下一篇:一种海芦笋酱菜及其制备方法