[发明专利]太阳能电池以及用于制造太阳能电池的方法有效

专利信息
申请号: 201280038601.0 申请日: 2012-07-16
公开(公告)号: CN103748692A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: B·斯特拉姆;D·拉什纳尔;C·盖琳;A·德库尔德斯;S·德沃尔夫;L·巴罗德 申请(专利权)人: 德国罗特·劳股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0747
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;刘久亮
地址: 德国霍恩施泰*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 以及 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.太阳能电池(1),其包括:

晶体硅内芯(2),

至少一个n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘),以及

在所述硅内芯(2)的至少一个表面(21,22)与所述至少一个n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘)之间的至少一个由硅或硅合金组成的钝化层(4,4‘),

其特征在于,该钝化层(4,4‘)具有硅-单氢分子基团(Si-H)和二氢化硅分子基团(Si-H2),其中在所述钝化层(4,4‘)的比较体积中,二氢化硅分子基团的数量(nSi-H2)相对二氢化硅分子基团(nSi-H2)和一氢化硅分子基团(nSi-H)总数的比率(Q)大于0.4(Q=nSi-H2nSi-H+nSi-H2>0.4).]]>

2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘)和/或所述钝化层(4,4‘)具有处于Si-C键中的碳原子。

3.根据权利要求1或2所述的太阳能电池,其特征在于,所述n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘)和/或所述钝化层(4,4‘)具有处于Si-O键中的氧原子。

4.根据以上权利要求中任一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述n掺杂或p掺杂硅和/或硅合金层(3,3‘)和/或所述钝化层(4,4‘)是非晶的、原晶的、纳米晶的、或微晶的层。

5.根据以上权利要求中任一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述钝化层(4,4‘)是固有层或者至少部分掺杂的层。

6.用于生产太阳能电池(1)的方法,该太阳能电池包括:

晶体硅内芯(2),

至少一个n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘),以及

在所述硅内芯(2)的至少一个表面(21,22)与所述至少一个n掺杂或p掺杂硅层或硅合金层(3,3‘)之间的至少一个由硅或硅合金组成的钝化层(4,4‘),

其特征在于,在一种等离子体放电工艺的多个步骤中沉积所述钝化层(4,4‘),使得所述钝化层(4,4‘)具有硅-单氢分子基团(Si-H)和二氢化硅分子基团(Si-H2)并且在所述钝化层(4,4‘)的比较体积中二氢化硅分子基团的数量(nSi-H2)相对二氢化硅分子基团(nSi-H2)和一氢化硅分子基团(nSi-H)总数的比例(Q)大于0.4(Q=nSi-H2nSi-H+nSi-H2>0.4).]]>

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