[发明专利]包含具有大体积取代基的硅桥联茂金属的高活性催化剂组合物

权利要求书

1.具有下式的化合物或其衍生物：

其中：

M是Ti、Zr或Hf；

X¹和X²独立地是单阴离子配体；

R^A是C₂至C₁₈烯基；并且

n是0或1。

2.权利要求1所述的化合物，其中M是Zr或Hf。

3.权利要求1所述的化合物，其中n等于0。

4.权利要求1所述的化合物，其中R^A是C₃至C₈端烯基。

5.权利要求1所述的化合物，其中R^A是乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、壬烯基或癸烯基。

6.权利要求1所述的化合物，其中X¹和X²独立地是氢；卤根；BH₄；C₁至C₁₈的烃基、烃氧基、烃氨基、烃基甲硅烷基或烃氨基甲硅烷基；或者OBR¹₂或OSO₂R¹，其中R¹是C₁至C₁₈烃基。

7.权利要求1所述的化合物，其中X¹和X²独立地是F、Cl、Br、I、甲墓、苄基或苯基。

8.权利要求1所述的化合物，其中X¹和X²独立地是烷氧基、芳氧基、烷基氨基、二烷基氨基、三烃基甲硅烷基或烃氨基甲硅烷基。

9.权利要求1所述的化合物，其中所述化合物是：

或其衍生物。

10.催化剂组合物，其包括：

(i)具有式(I)的硅桥联茂金属化合物或其衍生物：

其中：

M是Ti、Zr或Hf；

X¹和X²独立地是单阴离子配体；

R^A是C₂至C₁₈烯基；并且

n是0或1；

(ii)活化剂；以及

(iii)任选地，有机铝化合物。

11.权利要求10所述的组合物，其中所述活化剂包括铝氧烷化合物、有机硼或有机硼酸盐化合物、电离化离子化合物或其任何组合。

12.权利要求10所述的组合物，其中所述活化剂包括活化剂-载体，其包括用吸电子阴离子处理的固体氧化物，其中：

所述固体氧化物包括二氧化硅、氧化铝、二氧化硅-氧化铝、二氧化硅涂布的氧化铝、磷酸铝、铝磷酸盐、杂多钨酸盐、氧化钛、氧化锆、氧化镁、氧化硼、氧化锌、其混合的氧化物或者其任意组合；并目

所述吸电子阴离子包括硫酸根、硫酸氢根、氟根、氯根、溴根、碘根、氟硫酸根、氟硼酸根、磷酸根、氟磷酸根、三氟乙酸根、三氟甲磺酸根、氟锆酸根、氟钛酸根、磷钨酸根或者其任意组合。

13.权利要求10所述的组合物，其中所述活化剂包括活化剂-载体，其包括氟化氧化铝、氯化氧化铝、溴化氧化铝、硫酸化氧化铝、氟化二氧化硅-氧化铝、氯化二氧化硅-氧化铝、溴化二氧化硅-氧化铝、硫酸化二氧化硅-氧化铝、氟化二氧化硅-氧化锆、氯化二氧化硅-氧化锆、溴化二氧化硅-氧化锆、硫酸化二氧化硅-氧化锆、氟化二氧化硅-氧化钛、氟化二氧化硅涂布的氧化铝、硫酸化二氧化硅涂布的氧化铝、磷酸化二氧化硅涂布的氧化铝或其任何组合。