[发明专利]带电粒子射线装置

权利要求书

1.一种带电粒子射线装置，具备：

带电粒子射线源；

带电粒子光学系统，其将从所述带电粒子射线源放出的带电粒子作为带电粒子射线来照射样本；

像差校正器，其校正所述带电粒子光学系统的像差；和

控制单元，其控制所述带电粒子光学系统和所述像差校正器的各构成要素，

所述带电粒子射线装置的特征在于，

还具备：

自动像差校正装置，其通过学习自律地获得最佳的调整顺序。

2.一种带电粒子射线装置，其特征在于，具有：

带电粒子射线源；

带电粒子光学系统，其将从所述带电粒子射线源放出的带电粒子作为带电粒子射线来照射样本；

像差校正器，其校正所述带电粒子光学系统的像差；

控制单元，其控制所述带电粒子光学系统和所述像差校正器的各构成要素；

所述像差测定单元，其测定所述带电粒子光学系统的多个像差系数；

存储装置，其保存价值函数表，该价值函数表保持所述测定的多个像差系数中的表示校正哪个像差的值；

校正对象判断单元，其基于所述测定的像差系数和所述价值函数表的值来判断多个像差的校正；和

像差校正单元，其校正由所述校正对象判断单元进行了所述校正的判断的所述多个像差。

3.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述校正对象判断单元，根据由所述像差测定单元测定的像差校正前后的像差系数将该像差校正的效果定量化为回报，基于该回报来更新所述价值函数表的所述值。

4.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述价值函数表，将对各像差系数以各自的校正目标值进行标准化后得到的值分级化为N等级，将排列该分级化后的值而成的N进制数的数值变换为10进制数，将由此得到的数值设为像差状态，并将该像差状态作为行索引。

5.根据权利要求4所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述价值函数表，作为初始值，按照以下方式进行设定：在某行的所述像差状态下，像差相对越大具有越高的值，在不同的像差状态之间，各像差系数的总和越小的像差状态具有越高的值。

6.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述校正对象判断单元，遵循与所述价值函数表相应的选择概率来判断1个或多个像差的校正。

7.根据权利要求3所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

在将校正后的综合的像差越小则越大的权重系数设为W时，所述回报设为W×((校正前的像差系数)-(校正后的像差系数))。

8.根据权利要求7所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

将对各像差系数以各自的校正目标值进行标准化后得到的值分级化为N等级，所述权重系数设为该分级化后的值的总和的倒数。

9.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述像差校正单元，通过参考保存在所述存储装置中的变换系数表来从进行校正的像差的像差系数变换为校正控制量，使该校正控制量与衰减系数K相乘后反馈到所述控制单元，由此来校正所述像差。

10.根据权利要求9所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述衰减系数K设为1.0-(像差系数的相对误差)。

11.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

还具备：

控制量记录单元，其记录所述控制单元的控制量，

所述控制量记录单元记录所述像差校正单元校正像差前的所述控制单元的控制量，

在所述校正对象判断单元算出的所述回报全都为负的情况下，通过使所述控制单元恢复该记录的控制量来返回到校正前的状态。

12.根据权利要求2所述的带电粒子射线装置，其特征在于，

所述像差校正单元，将由所述像差测定单元测定的像差系数作为测定历史记录来进行记录，根据该测定历史记录来算出该像差系数的标准偏差，直到该标准偏差成为事前设定的阈值以下为止都限制所述像差的校正。